高导热绝缘氮化铝薄膜的制备、性能及在LED上的应用研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| ·问题的提出及研究意义 | 第8页 |
| ·国内外研究现状 | 第8-15页 |
| ·氮化铝(AlN)晶体的结构与能带结构 | 第8-9页 |
| ·氮化铝的性能 | 第9-10页 |
| ·氮化铝薄膜的制备方法 | 第10-12页 |
| ·氮化铝薄膜的应用前景和发展方向 | 第12-15页 |
| ·本文研究的目的和主要内容 | 第15-16页 |
| ·本文研究的目的 | 第15页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第15-16页 |
| 2 氮化铝薄膜的制备和表征 | 第16-28页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| ·直流磁控溅射原理 | 第16-17页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第17-18页 |
| ·反应溅射 | 第18-19页 |
| ·粉末溅射 | 第19-20页 |
| ·氮化铝薄膜的制备 | 第20-22页 |
| ·实验仪器 | 第20页 |
| ·衬底的清洗 | 第20页 |
| ·实验过程 | 第20-21页 |
| ·氮化铝薄膜的制备条件 | 第21-22页 |
| ·氮化铝薄膜的表征 | 第22-28页 |
| ·成分分析 | 第22-25页 |
| ·结构分析 | 第25-28页 |
| 3 氮化铝薄膜的性能分析 | 第28-44页 |
| ·热学性能分析 | 第28-32页 |
| ·薄膜热导率的研究现状 | 第28-32页 |
| ·AlN 薄膜热导率的测试 | 第32页 |
| ·电学性能分析 | 第32-34页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·样品制备与检测 | 第33页 |
| ·介电常数的测试 | 第33-34页 |
| ·光学性能分析 | 第34-42页 |
| ·透射光谱分析原理 | 第34-36页 |
| ·氮分压对透光率的影响 | 第36-37页 |
| ·工作压强对透光率的影响 | 第37-38页 |
| ·靶距对透光率的影响 | 第38页 |
| ·溅射时间对透光率的影响 | 第38-39页 |
| ·退火处理对透光率的影响 | 第39页 |
| ·光学带隙的理论计算 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 4 氮化铝薄膜在 LED 系统上的应用 | 第44-51页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·实验 | 第45-46页 |
| ·结果和讨论 | 第46-51页 |
| 5 结论与展望 | 第51-52页 |
| ·结论 | 第51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 附录 | 第56-58页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第56页 |
| B. 作者在攻读学位期间参与的项目 | 第56-58页 |
