摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-14页 |
第一章 绪论 | 第14-26页 |
·概述 | 第14-15页 |
·多元膜的发展 | 第15-18页 |
·二元氮化物薄膜 | 第15-16页 |
·多元合金化氮化物薄膜 | 第16-18页 |
·多元膜的强化机制 | 第18-19页 |
·晶粒细化 | 第18页 |
·固溶强化 | 第18-19页 |
·多组元强化 | 第19页 |
·多元膜的制备方法 | 第19-21页 |
·等离子体化学沉积(PCVD) | 第19-20页 |
·溅射镀 | 第20页 |
·电弧离子镀 | 第20-21页 |
·有关CrAlTiN膜系的研究 | 第21-24页 |
·有关CrAlTiN膜层的工艺 | 第22-23页 |
·CrAlTiN膜层耐高温氧化性能的提高 | 第23-24页 |
·本课题研究的目的及主要内容 | 第24-26页 |
·本课题研究的目的及意义 | 第24-25页 |
·本课题研究的主要内容 | 第25-26页 |
第二章 实验方案与检测 | 第26-36页 |
·实验方案 | 第26-30页 |
·膜层沉积前的金属离子轰击工艺正交实验 | 第26-27页 |
·过渡层工艺 | 第27页 |
·电弧离子镀CrAlTiN的工艺实验方案 | 第27-30页 |
·实验设备与样品制备 | 第30-32页 |
·实验设备 | 第30-31页 |
·靶材与样品制备 | 第31-32页 |
·检测设备与方法 | 第32-36页 |
·硬度、结合力以及膜层厚度测试 | 第32-34页 |
·耐高温氧化性能测试 | 第34-36页 |
第三章 电弧离子镀CrTiAlN的制备工艺及结果分析 | 第36-47页 |
·沉积薄膜前的离子轰击工艺 | 第36-40页 |
·正交实验表与结合力的表征 | 第36-37页 |
·实验结果与正交分析 | 第37-40页 |
·过渡层的工艺 | 第40-41页 |
·电弧离子镀CrAlTiN的制备工艺及结果分析 | 第41-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第四章 CrTiAlN的耐高温氧化性能研究 | 第47-70页 |
·CrTiAlN与CrN,TiAlN,AlTiN,TiN的耐高温氧化性能比较 | 第47-61页 |
·氧化前后的基本性能变化 | 第47-49页 |
·氧化增重结果与分析 | 第49-54页 |
·氧化前后的表面形貌与分析 | 第54-58页 |
·三种不同Cr/Al/Ti元素比例的CrTiAlN膜层氧化前后的XRD测试结果与分析 | 第58-61页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.28)Ti_(0.16)N(10#)耐高温氧化性能分析 | 第61-68页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.28)Ti_(0.16)N氧化前后的基本性能 | 第61-63页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.28)Ti_(0.16)N增重分析 | 第63页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.28)Ti_(0.16)N的表面形貌分析 | 第63-65页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.28)Ti_(0.16)N的断面形貌与分析 | 第65-67页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.28)Ti_(0.16)N的XRD测试与分析 | 第67页 |
·Cr_(0.56)Al_(0.2)Ti_(0.168)N的纳米硬度与弹性模量分析 | 第67-68页 |
·本章小结 | 第68-70页 |
结论 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-76页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第76-78页 |
致谢 | 第78页 |