磁控溅射制备氮化硅薄膜特性研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 序 | 第10-13页 |
| 1 绪论 | 第13-19页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·太阳能电池以及减反射薄膜的研究进展 | 第14-16页 |
| ·太阳能电池的研究现状和发展动态 | 第14-16页 |
| ·太阳能电池氮化硅减反射薄膜的研究进展 | 第16页 |
| ·课题研究的意义、目的以及存在的问题 | 第16-17页 |
| ·本论文研究内容 | 第17-19页 |
| 2 基本理论知识 | 第19-32页 |
| ·太阳电池介绍 | 第19-25页 |
| ·太阳电池的基本原理 | 第19-22页 |
| ·太阳电池的分类 | 第22-23页 |
| ·太阳电池的生产流程介绍 | 第23-25页 |
| ·减反射薄膜特征 | 第25-30页 |
| ·减反射薄膜的原理 | 第25-26页 |
| ·减反射薄膜钝化原理 | 第26-29页 |
| ·减反射薄膜比较 | 第29-30页 |
| ·氮化硅薄膜制备技术 | 第30-32页 |
| ·制备技术的比较 | 第30页 |
| ·磁控溅射原理 | 第30-32页 |
| 3 氮化硅薄膜光学特性的研究 | 第32-42页 |
| ·试验装置和测量仪器 | 第32-34页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第32页 |
| ·吸收光谱的测量 | 第32-33页 |
| ·红外光谱的测量 | 第33页 |
| ·X射线光电子能谱的测量 | 第33-34页 |
| ·沉积条件对薄膜性质的影响 | 第34-39页 |
| ·样品制备 | 第34-35页 |
| ·试验结果分析与讨论 | 第35-39页 |
| ·热处理对薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| ·薄膜热退火处理 | 第39页 |
| ·退火后薄膜性能的研究 | 第39-42页 |
| 4 氮化硅薄膜光致发光的研究 | 第42-51页 |
| ·测量仪器 | 第42-43页 |
| ·发射(PL)光谱的测量 | 第42页 |
| ·XRD的测量 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-51页 |
| ·样品退火处理 | 第43页 |
| ·退火条件下薄膜光致发光特性 | 第43-48页 |
| ·光致发光机理的探究 | 第48-49页 |
| ·PL研究现实意义 | 第49-51页 |
| 5 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 附录 A | 第55-56页 |
| 作者简历 | 第56-58页 |
| 学位论文数据集 | 第58页 |
