“神光”装置大尺寸衍射光学元件设计及其应用研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·衍射光学元件概述 | 第12-15页 |
| ·用于惯性约束核聚变的衍射光学元件 | 第15-20页 |
| ·惯性约束核聚变—ICF技术简述 | 第15-18页 |
| ·衍射光学元件在ICF中的应用 | 第18页 |
| ·元件性能的评价指标 | 第18-20页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 衍射光学元件的设计原理及方法 | 第26-49页 |
| ·衍射光学元件设计原理 | 第26-27页 |
| ·均匀照明用衍射光学元件的理论设计模型 | 第27-29页 |
| ·常用设计方法回顾 | 第29-37页 |
| ·基于Fourier变换的迭代方法 | 第29-33页 |
| ·搜索及优化方法 | 第33-36页 |
| ·杂化算法 | 第36-37页 |
| ·分步迭代方法 | 第37-38页 |
| ·空间频域优化设计方法 | 第38-45页 |
| ·空域优化设计方法的局限性 | 第39页 |
| ·焦面光强的空间频谱分析 | 第39-42页 |
| ·空间频域优化方法原理 | 第42-43页 |
| ·设计结果及对比 | 第43-45页 |
| ·本章小节 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第三章 衍射光学元件的制作工艺方案 | 第49-61页 |
| ·衍射光学元件的常用加工方法 | 第49-53页 |
| ·衍射光学元件工艺方案回顾 | 第53-57页 |
| ·连续位相元件及旋转刻蚀工艺 | 第53-55页 |
| ·随机位相元件及掩摸刻蚀工艺 | 第55-57页 |
| ·台阶型位相元件及多掩摸套刻工艺 | 第57-59页 |
| ·设计方法的可行性分析 | 第57-58页 |
| ·加工工艺的可行性分析 | 第58-59页 |
| ·本章小节 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第四章 ICF用衍射光学元件设计实例及性能分析 | 第61-80页 |
| ·口径80mm元件的设计和测试 | 第61-69页 |
| ·设计参数及结果 | 第61-62页 |
| ·测试结果 | 第62-64页 |
| ·工艺误差分析 | 第64-68页 |
| ·结果分析和讨论 | 第68-69页 |
| ·口径70mm元件的设计和测试 | 第69-75页 |
| ·设计参数及结果 | 第69-71页 |
| ·测试结果 | 第71-72页 |
| ·工艺误差分析 | 第72-74页 |
| ·结果分析和讨论 | 第74-75页 |
| ·测试系统介绍 | 第75-78页 |
| ·本章小节 | 第78-80页 |
| 第五章 大尺寸衍射光学元件的应用 | 第80-97页 |
| ·大尺寸元件的应用前景分析 | 第80-85页 |
| ·透镜列阵技术简介 | 第80-83页 |
| ·透镜列阵与多台阶DOE测试结果对比 | 第83-85页 |
| ·大尺寸元件实用化的难点 | 第85-87页 |
| ·大尺寸元件的设计 | 第87-92页 |
| ·设计参数及结果 | 第87-88页 |
| ·测试系统误差分析 | 第88-92页 |
| ·针对大尺寸元件的改进方案 | 第92-94页 |
| ·本章小节 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-97页 |
| 第六章 与SSD联用的DOE设计 | 第97-108页 |
| ·SSD技术简介 | 第97-101页 |
| ·SSD与DOE联用的测试 | 第101-102页 |
| ·与SSD联用的DOE设计方案 | 第102-105页 |
| ·本章小节 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第七章 总结与展望 | 第108-111页 |
| ·总结 | 第108-109页 |
| ·展望 | 第109-111页 |
| 攻读学位期间所做的工作 | 第111-112页 |
| 致谢 | 第112页 |
