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铁电存储器用PZT薄膜的制备及性能研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
1 绪论第9-25页
   ·铁电薄膜存储器研究概况第9-13页
   ·铁电薄膜存储技术原理第13-16页
   ·FeRAM 用铁电薄膜材料的选取第16-20页
   ·铁电薄膜材料的制备技术第20-22页
   ·铁电薄膜材料的测试与分析第22-24页
   ·课题来源第24-25页
2 PZT 陶瓷靶材的制备第25-30页
   ·固相反应法制备PZT 陶瓷靶材第25-27页
   ·制备PZT 陶瓷靶材的最佳工艺第27-29页
   ·本章小结第29-30页
3 PZT 陶瓷靶材的性能分析第30-46页
   ·PZT 陶瓷靶材的相成分分析第30-38页
     ·杂相分析第30-33页
     ·微观相成分波动分析第33-36页
     ·宏观相成分变化分析第36-38页
   ·PZT 陶瓷靶材的微结构分析第38-40页
   ·V 掺杂对PZT 陶瓷微结构的影响第40-45页
   ·本章小结第45-46页
4 磁控溅射法制备PZT 铁电薄膜第46-54页
   ·溅射工艺原理第46-47页
   ·电极材料的制备第47页
   ·PZT 薄膜溅射工艺研究第47-49页
   ·基片温度对PZT 薄膜铁电性能的影响第49-53页
   ·本章小结第53-54页
5 PLT/PZT/PLT 薄膜结构性能研究第54-61页
   ·PZT 铁电薄膜生长用晶种层第54页
   ·PLT 晶种层对PZT 铁电薄膜性能的影响第54-57页
   ·PLT/PZT/PLT 结构性能分析第57-60页
   ·本章小结第60-61页
6 全文总结第61-62页
致谢第62-63页
参考文献第63-70页
附录1 攻读硕士学位期间发表的论文目录第70页

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