低温低膨胀陶瓷涂层的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·导弹天线罩用透波材料 | 第8-10页 |
| ·陶瓷涂层材料 | 第10-13页 |
| ·陶瓷涂层材料的分类 | 第11页 |
| ·陶瓷涂层材料的制备工艺 | 第11-13页 |
| ·低膨胀陶瓷材料 | 第13-18页 |
| ·陶瓷材料的热膨胀性 | 第13-14页 |
| ·多晶与复合材料的热膨胀性 | 第14-16页 |
| ·锂铝硅酸盐陶瓷热膨胀性 | 第16-17页 |
| ·涂层的热膨胀性 | 第17-18页 |
| ·LAS微晶玻璃陶瓷 | 第18-21页 |
| ·微晶玻璃的制备方法 | 第18-19页 |
| ·LAS低膨胀微晶玻璃 | 第19-21页 |
| ·LAS陶瓷的抗弯曲性能 | 第21-22页 |
| ·LAS陶瓷的介电性能 | 第22-23页 |
| ·课题研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验方案 | 第24-29页 |
| ·实验药品与实验设备 | 第24-25页 |
| ·实验药品 | 第24页 |
| ·实验设备 | 第24-25页 |
| ·实验方法 | 第25-26页 |
| ·试样制备 | 第26页 |
| ·陶瓷涂层粉体的制备 | 第26页 |
| ·涂层的喷涂 | 第26页 |
| ·涂层与基体的烧结 | 第26页 |
| ·涂层的性能测试 | 第26-28页 |
| ·差热分析 | 第26页 |
| ·XRD分析 | 第26-27页 |
| ·扫描电镜分析 | 第27页 |
| ·热膨胀测试 | 第27页 |
| ·弯曲强度测试 | 第27页 |
| ·密度值测定 | 第27-28页 |
| ·介电性能测试 | 第28页 |
| ·其他分析 | 第28页 |
| ·石英陶瓷天线罩表面涂层的要求 | 第28-29页 |
| 第三章 涂层原料熔块的制备及性能研究 | 第29-35页 |
| ·锂辉石的制备及性能研究 | 第29-31页 |
| ·锂辉石的制备 | 第29页 |
| ·样品的测试分析 | 第29-31页 |
| ·锂霞石的制备及性能研究 | 第31-33页 |
| ·锂霞石的制备 | 第31页 |
| ·样品的测试分析 | 第31-33页 |
| ·涂层中低温熔块的制备及热膨胀系数的测定 | 第33-34页 |
| ·涂层组分的多相性和非均质性 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 陶瓷涂层粉体的配方设计及烧结制度的确定 | 第35-44页 |
| ·涂层组份设计 | 第35-36页 |
| ·涂层烧结制度的确定 | 第36-38页 |
| ·涂层的结构与性能研究 | 第38-42页 |
| ·涂层的组织结构 | 第38-39页 |
| ·涂层的组成 | 第39-40页 |
| ·涂层的热膨胀系数 | 第40-42页 |
| ·涂层的烧结密度 | 第42页 |
| ·涂层的介电性 | 第42页 |
| ·涂层与基体的结合性实验 | 第42-43页 |
| ·涂层组分的优化设计 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 添加剂对涂层性能的影响 | 第44-54页 |
| ·ZrW_2O_8的晶体结构和负热膨胀特性 | 第44-46页 |
| ·ZrW_2O_8的晶体结构 | 第44-45页 |
| ·ZrW_2O_8的负热膨胀理论 | 第45-46页 |
| ·添加剂ZrW_2O_8的制备 | 第46页 |
| ·添加剂ZrW_2O_8对涂层性能的影响 | 第46-48页 |
| ·ZrW_2O_8对涂层熔点的影响 | 第46页 |
| ·ZrW_2O_8对涂层热膨胀系数的影响 | 第46-47页 |
| ·ZrW_2O_8对涂层显微结构的影响 | 第47-48页 |
| ·晶核剂TiO_2对涂层性能的影响 | 第48-53页 |
| ·TiO_2对涂层主晶相的影响 | 第50页 |
| ·TiO_2对涂层显微结构的影响 | 第50-52页 |
| ·TiO_2对涂层热膨胀系数的影响 | 第52页 |
| ·TiO_2对涂层力学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读硕士期间的科研成果 | 第59页 |
