摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
·课题研究的背景 | 第8页 |
·电镀合金的历史和发展 | 第8-9页 |
·电镀合金的分类及用途 | 第9-10页 |
·电镀合金镀液的类型 | 第10-11页 |
·电镀液的组成 | 第11-12页 |
·非晶态合金镀层理论 | 第12-17页 |
·非晶态合金镀层的概述 | 第12-13页 |
·非晶态合金镀层的特性 | 第13-14页 |
·非晶态镀层结构的判定 | 第14页 |
·Ni-Fe-W合金电镀的国内外研究现状 | 第14-17页 |
·本文的研究目的及意义 | 第17-18页 |
第二章 合金共沉积的基本概念及理论 | 第18-29页 |
·合金电沉积的基本条件 | 第18-19页 |
·促使金属共沉积的措施 | 第19页 |
·金属共沉积的类型 | 第19-20页 |
·金属共沉积的影响因素 | 第20-25页 |
·镀液成分的影响 | 第20-21页 |
·操作条件的影响 | 第21-23页 |
·电极材料性质的影响 | 第23-24页 |
·电层结构的影响 | 第24页 |
·金属离子存在状态的影响 | 第24-25页 |
·金属共沉积的过程 | 第25页 |
·Ni-Fe-W合金共沉积分析 | 第25-29页 |
第三章 Ni-Fe-W合金镀层的制备及其工艺参数对镀层的影响 | 第29-50页 |
·实验仪器及试剂 | 第29-30页 |
·实验仪器 | 第29页 |
·实验试剂 | 第29-30页 |
·电沉积的工艺流程 | 第30-33页 |
·镀液配制 | 第30页 |
·基体处理 | 第30-33页 |
·电沉积 | 第33页 |
·基体后处理 | 第33页 |
·交直流叠加电镀Ni-Fe-W合金工艺参数的确定 | 第33-41页 |
·振幅和频率对沉积速率的影响 | 第33-35页 |
·时间对镀层硬度和沉积速率的影响 | 第35-36页 |
·电流密度对交直流叠加电镀和直流电镀Ni-Fe-W的影响 | 第36-37页 |
·温度对交直流叠加电镀和直流电镀的影响 | 第37-38页 |
·柠檬酸钠的含量对镀层沉积速率和硬度的影响 | 第38-40页 |
·pH对镀层沉积速率和硬度的影响 | 第40-41页 |
·钨酸钠的含量对镀层硬度的影响 | 第41页 |
·镀液中各参数对镀层成分的影响 | 第41-50页 |
·镀液中镍、铁、钨含量与合金中各成分的关系 | 第42-44页 |
·电流密度对合金成分的影响 | 第44-45页 |
·温度对合金成分的影响 | 第45-46页 |
·pH与合金成分的关系 | 第46页 |
·柠檬酸钠浓度与镀层成分的关系 | 第46-50页 |
第四章 Ni-Fe-W合金镀层表面形貌及其耐腐蚀性能的表征 | 第50-64页 |
·钨酸钠含量对镀层晶型的影响 | 第50-52页 |
·柠檬酸钠含量对镀层晶型的影响 | 第52-54页 |
·柠檬酸钠含量对镀层表观的影响 | 第54-55页 |
·柠檬酸钠含量对镀层耐腐蚀性能的影响 | 第55-56页 |
·添加剂对交直流叠加电镀Ni-Fe-W合金镀层微观形貌的影响 | 第56-58页 |
·交直流叠加电镀Ni-Fe-W纳米合金镀层的表征 | 第58-61页 |
·交直流叠加电镀Ni-Fe-W纳米合金镀层的扫描电镜图片 | 第58-60页 |
·交直流叠加电镀Ni-Fe-W纳米合金镀层的XRD图片 | 第60-61页 |
·交直流叠加电镀和直流电镀Ni-Fe-W合金镀层的扫描电镜图片 | 第61页 |
·交直流叠加电镀和直流电镀耐腐蚀性能的表征 | 第61-62页 |
·小结 | 第62-64页 |
结论 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-69页 |
发表论文情况 | 第69页 |