摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
目录 | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第6-14页 |
·引言 | 第6-7页 |
·目前离子束材料表面改性的最新成果和应用 | 第7-10页 |
·离子束在材料表面改性方面的意义 | 第10-12页 |
·本文研究的目的和意义 | 第12-14页 |
第二章 一种新型的离子注入技术PHEDP | 第14-23页 |
·等离子体的基本概念 | 第14-15页 |
·等离子体注入的理论分析 | 第15页 |
·一种新型等离子体注入技术—脉冲高能量密度等离子体 | 第15-16页 |
·PHEDP装置的基本原理及试验过程 | 第16-17页 |
·PHEDP方法制备薄膜的特点 | 第17-18页 |
·PHEDP方法影响材料表面改性的几个参数 | 第18页 |
·PHEDP参数对薄膜性质的影响举例 | 第18-23页 |
第三章 PHEDP材料表面改性新成果—类金刚石薄膜和NiAl薄膜 | 第23-34页 |
·概述 PHEDP方法制备类金刚石薄膜 | 第23-28页 |
·PHEDP方法制备NIAL化合物薄膜 | 第28-34页 |
第四章 PHEDP对材料表面磨损及腐蚀特性的研究 | 第34-46页 |
·磨损特性研究的目的 | 第34-35页 |
·腐蚀特性的研目的 | 第35页 |
·镀膜过程中的试验参数 | 第35-36页 |
·TIN的研究 | 第36-40页 |
·(Ti,Al) N的研究 | 第40-46页 |
第五章 PHEDP材料表面改性在其它方面应用的举例 | 第46-55页 |
·光学性能的改善 | 第46-50页 |
·铝陶瓷表面金属化 | 第50-55页 |
总结 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |