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长波长垂直腔面发射激光器器件工艺与光电特性研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 文献综述第10-27页
   ·垂直腔面发射激光器(VCSEL)的结构、特点、历史及现状第10-14页
     ·VCSEL基本结构第10-11页
     ·VCSEL的特点及应用范围第11-12页
     ·VCSEL的材料体系第12-13页
     ·VCSEL的历史及现状第13-14页
   ·长波长VCSEL面临的技术问题第14-18页
   ·长波长VCSEL的研究进展第18-21页
   ·可调谐长波长VCSEL的研究进展第21-24页
   ·VCSEL工艺技术第24-25页
   ·本论文的主要研究内容第25-26页
   ·本章小结第26-27页
第二章 面发射激光器制作工艺第27-52页
   ·台面腐蚀第28-33页
     ·InP材料的选择性腐蚀第30页
     ·InGaAs(P)/InAlAs材料的选择性腐蚀第30-31页
     ·InP/InGaAs(P)/InAlAs材料的非选择性腐蚀第31-33页
   ·表面钝化第33-34页
   ·电极图形制作第34-37页
     ·腐蚀方法第35页
     ·剥离方法第35-37页
   ·欧姆接触第37-47页
     ·引言第38-41页
     ·实验步骤第41-42页
     ·p型InP和InGaAsP材料的欧姆接触特性第42-45页
     ·1.3μm VCSEL结构电学特性的提高第45-47页
   ·光学膜第47-48页
   ·工艺集成与版图设计第48-50页
   ·特性测试第50-51页
   ·本章小结第51-52页
第三章 1.3μm全外延面发射激光器探索第52-66页
   ·器件结构与制作工艺第52-54页
   ·边发射激光器特性第54-55页
   ·器件结构反射光谱分析第55-58页
   ·器件特性第58-61页
     ·I-V和I-P特性第58页
     ·发射光谱第58-59页
     ·温度特性第59-61页
   ·封装后器件特性第61-63页
   ·全外延结构的提高途径第63-65页
   ·本章小结第65-66页
第四章 掩埋隧道结的研究第66-81页
   ·隧道结的原理第66-68页
   ·隧道结的电学特性模拟第68-73页
   ·隧道结的制作和电学特性第73-77页
     ·实验步骤第73-74页
     ·隧道结的掺杂浓度第74-75页
     ·隧道结的电学特性第75-77页
   ·包含隧道结的1.3μm VCSEL结构电学和光谱特性第77-80页
   ·本章小结第80-81页
第五章 电流限制孔径的研究第81-99页
   ·侧向腐蚀工艺制作电流限制孔径第82-85页
     ·实验步骤第82-83页
     ·各种材料的选择比第83页
     ·侧向腐蚀中的晶向问题第83-84页
     ·AlInAs材料的侧向腐蚀速率第84-85页
     ·InP材料的侧向腐蚀速率第85页
   ·离子注入工艺制作电流限制孔径第85-97页
     ·离子注入的原理与作用第85-86页
     ·离子注入的掩膜第86-87页
     ·实验步骤第87-89页
     ·n-InP材料注入H~ 的电学特性第89-90页
     ·离子注入1.3μm面发射激光器结构的电学特性第90-94页
     ·离子注入1.3μm面发射激光器结构的电致发光特性第94-97页
   ·室温脉冲激射的VCSEL器件第97-98页
   ·本章小结第98-99页
第六章 可调谐面发射激光器初步探讨第99-112页
   ·可调谐长波长VCSEL结构设计与分析第100-105页
     ·挠度第100-102页
     ·空气隙DBR反射镜第102-103页
     ·器件结构初步设计与调谐性能模拟第103-105页
   ·InP/空气隙结构的制作与特性分析第105-111页
     ·侧向腐蚀InGaAs的速率和表面形貌第105-107页
     ·粘附释放工艺的探讨第107-108页
     ·InP/空气隙结构的制作第108-109页
     ·InP/空气隙结构的微拉曼光谱测试第109-111页
   ·本章小结第111-112页
第七章 总结与展望第112-114页
附录A p型GaAs的远红外波段光学特性第114-121页
附录B 论文中的英文缩写第121-122页
参考文献第122-133页
发表论文及申请专利目录第133-135页
致谢第135-137页
作者简历第137-138页

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