| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| 1．1 引言 | 第8-9页 |
| 1．1．1 纳米材料概述 | 第8-9页 |
| 1．1．2 一维纳米材料 | 第9页 |
| 1．2 一维纳米有序阵列 | 第9-11页 |
| 1．2．1 一维纳米有序阵列概述 | 第9-10页 |
| 1．2．2 一维纳米有序阵列的特性 | 第10-11页 |
| 1．3 模板法制备一维纳米有序阵列 | 第11-15页 |
| 1．3．1 模板的种类及优点 | 第12-13页 |
| 1．3．2 模板组装一维纳米阵列的方法 | 第13-15页 |
| 1．4 一维磁性纳米阵列 | 第15-18页 |
| 1．4．1 纳米磁性材料概述 | 第15-16页 |
| 1．4．2 磁记录材料 | 第16-17页 |
| 1．4．3 磁性纳米线阵列的研究现状 | 第17-18页 |
| 1．5 本课题研究的主要内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验部分 | 第19-27页 |
| 2．1 实验仪器及原料 | 第19页 |
| 2．2 多孔氧化铝模板的制备 | 第19-23页 |
| 2．2．1 铝表面预处理 | 第20-21页 |
| 2．2．2 阳极氧化 | 第21页 |
| 2．2．3 后处理 | 第21-23页 |
| 2．3 直流电沉积磁性纳米线阵列 | 第23-24页 |
| 2．3．1 直流电沉积实验装置 | 第23页 |
| 2．3．2 直流电沉积工艺 | 第23-24页 |
| 2．4 溶胶-凝胶法制备钻铁氧体纳米线阵列 | 第24-25页 |
| 2．5 结构和性能表征 | 第25-27页 |
| 第3章 多孔阳极氧化铝模板的研究 | 第27-38页 |
| 3．1 多孔氧化铝结构表征与模型分析 | 第27-30页 |
| 3．1．1 多孔氧化铝膜结构表征与分析 | 第27-28页 |
| 3．1．2 多孔氧化铝膜模型分析 | 第28-30页 |
| 3．2 氧化铝模板制备工艺研究 | 第30-35页 |
| 3．2．1 氧化铝模板有序化的控制 | 第30-33页 |
| 3．2．2 氧化铝模板孔径、厚度的控制 | 第33-35页 |
| 3．3 多孔阳极氧化铝模板生长过程的探讨 | 第35-38页 |
| 第4章 氧化铝模板制备磁性纳米线阵列的研究 | 第38-53页 |
| 4．1 Fe纳米线阵列的研究 | 第38-44页 |
| 4．1．1 Fe纳米线结构分析及金属电沉积过程讨论 | 第38-41页 |
| 4．1．2 Fe纳米线阵列磁学性能表征 | 第41-42页 |
| 4．1．3 不同直径 Fe纳米线阵列磁性能研究 | 第42-44页 |
| 4．2 Ni纳米线阵列的研究 | 第44-47页 |
| 4．2．1 Ni纳米线结构分析 | 第44-46页 |
| 4．2．2 Ni纳米线阵列磁学性能表征 | 第46-47页 |
| 4．3 直流电沉积金属纳米线工艺条件的研究 | 第47-49页 |
| 4．3．1 沉积电位的控制 | 第47-48页 |
| 4．3．2 其它影响因素的控制 | 第48-49页 |
| 4．4 钴铁氧体(CoFe_2O_4)纳米线阵列的研究 | 第49-51页 |
| 4．4．1 钴铁氧体纳米线结构表征 | 第49-50页 |
| 4．4．2 钴铁氧体纳米线阵列磁性能表征 | 第50-51页 |
| 4．5 多段磁性纳米线阵列的展望 | 第51-53页 |
| 第5章 总结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 硕士期间已发表和即将发表的论文 | 第60页 |