激光诱导扩散中非均匀场扩散理论研究
第一章 引言 | 第1-16页 |
·研究背景及意义 | 第10-13页 |
·激光诱导扩散 | 第10-11页 |
·研究意义及国内外相关研究 | 第11-13页 |
·本文的主要工作 | 第13-14页 |
·本文的创新之处 | 第14-16页 |
第二章 热传导定解问题 | 第16-26页 |
·激光能量向半导体的传输 | 第16-19页 |
·吸收系数和反射率 | 第16-18页 |
·半导体对激光的吸收机制 | 第18-19页 |
·热传导方程 | 第19-23页 |
·热传导方程 | 第20-21页 |
·热源项的确定 | 第21-22页 |
·热传导系数的确定 | 第22-23页 |
·激光诱导扩散中温度场定解问题 | 第23-26页 |
第三章 四维温度场的近似解析解 | 第26-30页 |
·温度场定解问题的近似处理 | 第26-27页 |
·kirchhoff 变换 | 第27-28页 |
·时间变量变换 | 第28-30页 |
第四章 四维温度场的数值模拟 | 第30-54页 |
·数值传热分析方法 | 第30-31页 |
·空间区域的离散化 | 第31-34页 |
·有限容积法建立离散方程 | 第34-40页 |
·有限容积法的实施步骤及常用型线 | 第34-35页 |
·离散方程的建立 | 第35-38页 |
·边界条件的处理 | 第38-40页 |
·代数方程组的迭代求解 | 第40-44页 |
·点迭代法 | 第41-42页 |
·块迭代法 | 第42-43页 |
·交替方向块迭代法 | 第43-44页 |
·四维温度场的数值解 | 第44-52页 |
·matlab 程序设计 | 第44-46页 |
·数值解的稳定性和收敛性分析 | 第46-47页 |
·计算结果与讨论 | 第47-52页 |
·温度分布随空间的变化 | 第49-51页 |
·温度分布随时间的变化 | 第51-52页 |
·工艺参数对温度分布的影响 | 第52-54页 |
第五章 四维杂质浓度分布的数值模拟 | 第54-68页 |
·杂质浓度分布定解问题 | 第54-56页 |
·扩散的一般规律 | 第54-55页 |
·杂质浓度分布定解问题 | 第55-56页 |
·Zn 在化合物半导体材料中的扩散机制 | 第56-59页 |
·杂质浓度分布的数值计算 | 第59-65页 |
·有限容积法建立离散方程 | 第59-61页 |
·matlab 程序设计 | 第61-62页 |
·计算结果与讨论 | 第62-65页 |
·杂质浓度分布随空间的变化 | 第63-64页 |
·杂质浓度分布随时间的变化 | 第64-65页 |
·工艺参数对杂质浓度分布的影响 | 第65-68页 |
第六章 激光诱导扩散实验 | 第68-76页 |
·基片的制备及实验步骤 | 第68-69页 |
·测量杂质浓度分布 | 第69-74页 |
·二次离子质谱仪(SIMS) | 第69-71页 |
·实验结果 | 第71-74页 |
·实验结果与理论计算的比较及分析 | 第74-76页 |
第七章 结论 | 第76-79页 |
·结论 | 第76-77页 |
·创新与展望 | 第77-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-84页 |
硕士期间被录用的论文 | 第84页 |