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激光诱导扩散中非均匀场扩散理论研究

第一章 引言第1-16页
   ·研究背景及意义第10-13页
     ·激光诱导扩散第10-11页
     ·研究意义及国内外相关研究第11-13页
   ·本文的主要工作第13-14页
   ·本文的创新之处第14-16页
第二章 热传导定解问题第16-26页
   ·激光能量向半导体的传输第16-19页
     ·吸收系数和反射率第16-18页
     ·半导体对激光的吸收机制第18-19页
   ·热传导方程第19-23页
     ·热传导方程第20-21页
     ·热源项的确定第21-22页
     ·热传导系数的确定第22-23页
   ·激光诱导扩散中温度场定解问题第23-26页
第三章 四维温度场的近似解析解第26-30页
   ·温度场定解问题的近似处理第26-27页
   ·kirchhoff 变换第27-28页
   ·时间变量变换第28-30页
第四章 四维温度场的数值模拟第30-54页
   ·数值传热分析方法第30-31页
   ·空间区域的离散化第31-34页
   ·有限容积法建立离散方程第34-40页
     ·有限容积法的实施步骤及常用型线第34-35页
     ·离散方程的建立第35-38页
     ·边界条件的处理第38-40页
   ·代数方程组的迭代求解第40-44页
     ·点迭代法第41-42页
     ·块迭代法第42-43页
     ·交替方向块迭代法第43-44页
   ·四维温度场的数值解第44-52页
     ·matlab 程序设计第44-46页
     ·数值解的稳定性和收敛性分析第46-47页
     ·计算结果与讨论第47-52页
       ·温度分布随空间的变化第49-51页
       ·温度分布随时间的变化第51-52页
   ·工艺参数对温度分布的影响第52-54页
第五章 四维杂质浓度分布的数值模拟第54-68页
   ·杂质浓度分布定解问题第54-56页
     ·扩散的一般规律第54-55页
     ·杂质浓度分布定解问题第55-56页
   ·Zn 在化合物半导体材料中的扩散机制第56-59页
   ·杂质浓度分布的数值计算第59-65页
     ·有限容积法建立离散方程第59-61页
     ·matlab 程序设计第61-62页
     ·计算结果与讨论第62-65页
       ·杂质浓度分布随空间的变化第63-64页
       ·杂质浓度分布随时间的变化第64-65页
   ·工艺参数对杂质浓度分布的影响第65-68页
第六章 激光诱导扩散实验第68-76页
   ·基片的制备及实验步骤第68-69页
   ·测量杂质浓度分布第69-74页
     ·二次离子质谱仪(SIMS)第69-71页
     ·实验结果第71-74页
   ·实验结果与理论计算的比较及分析第74-76页
第七章 结论第76-79页
   ·结论第76-77页
   ·创新与展望第77-79页
致谢第79-80页
参考文献第80-84页
硕士期间被录用的论文第84页

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