| 第一章 绪论 | 第1-18页 |
| §1．1 光通信发展的现状与展望 | 第6-13页 |
| 1．1．1 光通信技术概况 | 第6-7页 |
| 1．1．2 波分复用全光通信网的发展 | 第7-13页 |
| §1．2 本文工作 | 第13-14页 |
| 第一章 参考文献 | 第14-18页 |
| 第二章 平面波导型耦合器 | 第18-76页 |
| §2．1 耦合器概况 | 第18-32页 |
| 2．1．1 耦合器的前景展望与市场预测 | 第18-21页 |
| 2．1．2 耦合器的分类 | 第21-28页 |
| 2．1．3 描述耦合器特性的一般技术参数 | 第28-30页 |
| 2．1．4 光耦合器的应用 | 第30-31页 |
| 2．1．5 光耦合器的制作方法 | 第31-32页 |
| §2．2 设计工具介绍 | 第32-42页 |
| 2．2．1 矩形波导有效折射率法 | 第32-33页 |
| 2．2．2 BPM模拟计算 | 第33-41页 |
| 2．2．3 波导的基础性计算 | 第41-42页 |
| §2．3 MMI的特性与结果优化 | 第42-48页 |
| 2．3．1 MMI原理及介绍 | 第42-46页 |
| 2．3．2 离子交换玻璃波导MMI的设计 | 第46-48页 |
| §2．4 低损耗Y分支耦合器的优化设计 | 第48-54页 |
| §2．5 二氧化硅波导型定向耦合器的设计分析 | 第54-66页 |
| 2．5．1 引言 | 第54-55页 |
| 2．5．2 定向耦合的耦合特性研究 | 第55-59页 |
| 2．5．3 定向耦合器的设计 | 第59-66页 |
| §2．6 基于Mach-Zehnder结构的波长平坦功分器设计 | 第66-72页 |
| 2．6．1 Mach-Zehnder结构的传输矩阵理论 | 第66-67页 |
| 2．6．2 Mach-Zehnder结构的波长特性计算 | 第67-72页 |
| 第二章 参考文献 | 第72-76页 |
| 第三章 光波导器件制作工艺的研究 | 第76-113页 |
| §3．1 光刻技术 | 第76-92页 |
| 3．1．1 光刻技术的基本原理 | 第76-81页 |
| 3．1．2 光刻工艺流程 | 第81-83页 |
| 3．1．3 光刻实验数据分析 | 第83-86页 |
| 3．1．4 剥离法（lift-off）光刻工艺 | 第86-92页 |
| §3．2 铝掩模的制备 | 第92-93页 |
| §3．3 溶胶凝胶法（sol-gel）制备二氧化硅膜 | 第93-94页 |
| §3．4 离子交换玻璃波导的制作和研究 | 第94-110页 |
| 3．4．1 引言 | 第94-95页 |
| 3．4．2 BK7离子交换玻璃波导的制作的实验原理和特性分析 | 第95-99页 |
| 3．4．3 离子交换波导生长动力学的讨论 | 第99-102页 |
| 3．4．4 BK7离子交换玻璃波导的制作实验 | 第102-105页 |
| 3．4．5 离子交换玻璃波导进行退火的实验 | 第105-108页 |
| 3．4．6 正在进行的离子交换玻璃波导实验 | 第108-110页 |
| 第三章 参考文献 | 第110-113页 |
| 第四章 总结 | 第113-115页 |
| 附录 | 第115-123页 |
| 附录一： 一元三次方程的解法 | 第115-116页 |
| 附录二： Padé系数 | 第116-118页 |
| 附录三： 定向耦合器耦合模方程的推导和超模理论 | 第118-120页 |
| 附录四： 遗传算法 | 第120-123页 |
| 致谢 | 第123-124页 |
