轴瓦磁控溅射镀膜技术及其材料力学性能研究
| 第1章 绪论 | 第1-18页 |
| 1．1 本文的背景、研究目的和意义 | 第12-14页 |
| 1．2 轴承系统概述 | 第14-16页 |
| 1．3 轴承合金材料的性能要求 | 第16-17页 |
| 1．4 本文的主要工作 | 第17-18页 |
| 第2章 磁控溅射基本理论研究 | 第18-43页 |
| 2．1 真空镀膜基础 | 第18-27页 |
| 2．1．1 气体与固体的相互作用 | 第18-23页 |
| 2．1．2 吸附几率和吸附时间 | 第23-24页 |
| 2．1．3 薄膜的形成 | 第24-27页 |
| 2．2 溅射机理 | 第27-28页 |
| 2．3 溅射镀膜 | 第28-31页 |
| 2．4 磁控溅射的工作原理 | 第31-39页 |
| 2．4．1 电子在静止电磁场中的运动 | 第32-33页 |
| 2．4．2 磁控溅射的工作原理 | 第33-36页 |
| 2．4．3 平面磁控溅射的工作特性 | 第36-39页 |
| 2．5 磁控溅射技术在材料科学中的应用 | 第39-40页 |
| 2．6 磁控溅射技术的特点 | 第40-42页 |
| 2．7 本章小结 | 第42-43页 |
| 第3章 磁控溅射镀膜技术研究 | 第43-63页 |
| 3．1 实验目的 | 第43页 |
| 3．2 实验设备 | 第43-53页 |
| 3．2．1 溅洗装置 | 第44-49页 |
| 3．2．2 溅射装置 | 第49-53页 |
| 3．3 靶材成份及规格要求 | 第53-54页 |
| 3．4 实验过程 | 第54-59页 |
| 3．4．1 电镀Ni栅层的工艺过程 | 第54-55页 |
| 3．4．2 溅镀AlSn20膜的工艺过程 | 第55-59页 |
| 3．5 金相试样的制备 | 第59-62页 |
| 3．6 本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第63-79页 |
| 4．1 溅镀层的结构及其影响因素 | 第63-67页 |
| 4．1．1 基片温度与氩气压力的影响 | 第63-65页 |
| 4．1．2 极间距的影响 | 第65-66页 |
| 4．1．3 工作负偏压的影响 | 第66-67页 |
| 4．2 表面形貌分析 | 第67-71页 |
| 4．2．1 氩气压力对表面形貌的影响 | 第70-71页 |
| 4．2．2 基片温度对表面形貌的影响 | 第71页 |
| 4．3 横截面结构分析 | 第71-73页 |
| 4．4 膜与靶材成份分析 | 第73-75页 |
| 4．5 镀覆层AlSn20膜的硬度分析 | 第75-76页 |
| 4．6 结合强度试验 | 第76-77页 |
| 4．6．1 划格试验 | 第76-77页 |
| 4．6．2 热震试验 | 第77页 |
| 4．7 结合强度分析 | 第77-78页 |
| 4．8 本章小结 | 第78-79页 |
| 第5章 轴瓦磁溅镀膜工艺研究 | 第79-106页 |
| 5．1 溅镀轴瓦的类型与特性 | 第79-88页 |
| 5．1．1 溅镀轴瓦的类型 | 第79-81页 |
| 5．1．2 溅镀轴瓦的材料组织要求 | 第81页 |
| 5．1．3 溅镀轴瓦合金的性能 | 第81-86页 |
| 5．1．4 溅镀轴瓦与其它轴瓦性能比较 | 第86-88页 |
| 5．2 实验研究 | 第88-95页 |
| 5．2．1 实验目的 | 第88-89页 |
| 5．2．2 实验设备 | 第89-90页 |
| 5．2．3 实验过程 | 第90-95页 |
| 5．3 镀层的分析与检测 | 第95-103页 |
| 5．3．1 膜的形貌分析 | 第95-97页 |
| 5．3．2 镀层厚度测定 | 第97页 |
| 5．3．3 金相组织结构 | 第97-98页 |
| 5．3．4 成份分析及Sn相定量分析 | 第98-102页 |
| 5．3．5 膜层硬度测定 | 第102-103页 |
| 5．4 结合强度试验 | 第103-104页 |
| 5．4．1 划格试验 | 第103页 |
| 5．4．2 热震试验 | 第103页 |
| 5．4．3 弯折对比试验 | 第103-104页 |
| 5．5 粗糙度检验 | 第104-105页 |
| 5．6 本章小结 | 第105-106页 |
| 结论 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-119页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第119-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 个人简历 | 第122页 |
