| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第—章 绪论 | 第8-15页 |
| 1．1 半导体激光器的发展 | 第8-10页 |
| 1．2 半导体激光器的应用现状及其发展趋势 | 第10-13页 |
| 1．3 本文的主要工作 | 第13-14页 |
| 参考文献 | 第14-15页 |
| 第二章 外腔半导体激光器双稳基本公式 | 第15-29页 |
| 2．1 外腔半导体激光器 | 第15-21页 |
| 2．1．1 概述 | 第15-16页 |
| 2．1．2 基本公式 | 第16-21页 |
| 2．1．2．1 有效反射率R_（eff） | 第17-18页 |
| 2．1．2．2 阈值条件 | 第18-21页 |
| 2．2 光学双稳 | 第21-25页 |
| 2．2．1 概述 | 第21-22页 |
| 2．2．2 基本公式 | 第22-25页 |
| 2．3 小结 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-29页 |
| 第三章 电流双稳 | 第29-43页 |
| 3．1 引言 | 第29页 |
| 3．2 实验结果 | 第29-32页 |
| 3．3 理论分析 | 第32-34页 |
| 3．3．1 准费米能级 | 第32页 |
| 3．3．2 LD偏置电流随载流子密度的变化 | 第32-34页 |
| 3．4 电流双稳环的确定 | 第34-37页 |
| 3．5 双稳环的基本特性研究 | 第37-41页 |
| 3．6 小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第四章 外腔半导体激光器双稳动态特性分析 | 第43-57页 |
| 4．1 引言 | 第43页 |
| 4．2 小信号分析ECLD双稳的动态过程 | 第43-48页 |
| 4．2．1 小信号近似 | 第43-44页 |
| 4．2．2 速率方程组 | 第44页 |
| 4．2．3 动态过程分析 | 第44-48页 |
| 4．3 ECLD双稳环跳变动态特性数值分析 | 第48-56页 |
| 4．3．1 含有增益压缩因子ε的速率方程组 | 第49-50页 |
| 4．3．2 动态过程分析 | 第50-56页 |
| 4．4 小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 结束语 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 附录： 攻读硕士期间与导师、同学合作发表、录用和完成的论文 | 第59页 |