化学溶液法制备涂层导体缓冲层的技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 涂层导体缓冲层的研究进展 | 第9-21页 |
| ·YBa_2Cu_3O_(7-d)超导体 | 第9-10页 |
| ·实用YBCO超导材料 | 第10-13页 |
| ·YBCO单畴大块 | 第10-11页 |
| ·YBCO薄膜 | 第11-12页 |
| ·YBCO涂层导体 | 第12-13页 |
| ·涂层导体缓冲层 | 第13-16页 |
| ·种子层 | 第15-16页 |
| ·阻隔层 | 第16页 |
| ·晶格匹配层 | 第16页 |
| ·涂层导体缓冲层制备技术 | 第16-18页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第17页 |
| ·磁控溅射技术 | 第17-18页 |
| ·金属-有机物气相沉积 | 第18页 |
| ·化学溶液沉积技术 | 第18页 |
| ·涂层导体缓冲层的发展趋势 | 第18-21页 |
| 第2章 化学溶液沉积技术 | 第21-27页 |
| ·基本原理 | 第21-22页 |
| ·实验方法 | 第22-24页 |
| ·典型的应用实例 | 第24-27页 |
| 第3章 导电型缓冲层LaNiO_3的研究 | 第27-39页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·实验过程 | 第27-32页 |
| ·实验仪器及原料 | 第27-28页 |
| ·基片的清洗 | 第28-29页 |
| ·前驱溶液的配制 | 第29页 |
| ·涂敷及薄膜的热处理 | 第29-32页 |
| ·结果及分析 | 第32-38页 |
| ·热处理温度范围的选择 | 第32-34页 |
| ·热处理温度以及厚度对织构的影响 | 第34-36页 |
| ·热处理工艺对表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·LaNiO_3薄膜的导电性能研究 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 钙钛矿型缓冲层NdGaO_3的研究 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验过程 | 第39-42页 |
| ·实验仪器及原料 | 第39-40页 |
| ·基片的清洗 | 第40页 |
| ·前驱物的准备以及前驱溶液的配制 | 第40-41页 |
| ·涂敷及薄膜的热处理 | 第41-42页 |
| ·前驱体及薄膜的分析测试方法及原理 | 第42页 |
| ·结果及分析 | 第42-47页 |
| ·前驱物以及前驱液的表征 | 第42-44页 |
| ·热处理温度和热处理时间对织构形成的影响 | 第44-46页 |
| ·NdGaO_3表面形貌的研究 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第5章 双钙钛矿型缓冲层的研究 | 第49-55页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验过程 | 第49-51页 |
| ·实验仪器及原料 | 第49-50页 |
| ·前驱物中钨盐的制备 | 第50-51页 |
| ·前驱溶液的配制及分析 | 第51页 |
| ·结果及分析 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第6章 主要结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 攻读硕士期间的科研成果 | 第67页 |
