| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·纳米复合永磁材料的发展概述 | 第8-9页 |
| ·纳米复合永磁材料的制备方法及分类 | 第9-14页 |
| ·熔体快淬法 | 第10页 |
| ·机械合金化法 | 第10-11页 |
| ·HDDR 法 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射法 | 第12页 |
| ·离子束溅射法 | 第12-14页 |
| ·纳米复合永磁薄膜的实验研究进展 | 第14-18页 |
| ·合金成份 | 第14-16页 |
| ·制备工艺 | 第16-17页 |
| ·热处理工艺 | 第17-18页 |
| ·纳米复合永磁薄膜的模拟研究进展 | 第18-22页 |
| ·溅射过程模拟 | 第18-19页 |
| ·薄膜生长模拟 | 第19-20页 |
| ·磁性能模拟 | 第20-22页 |
| ·本课题的研究目的、意义和主要内容 | 第22-24页 |
| 第二章 ND_2FE_(14)B/Α-FE/ND_2FE_(14)B 复合永磁薄膜的制备工艺 | 第24-40页 |
| ·薄膜的制备 | 第24-28页 |
| ·溅射设备 | 第24-25页 |
| ·晶化退火处理设备 | 第25页 |
| ·薄膜制备的工艺流程 | 第25-28页 |
| ·溅射工艺参数的确定 | 第28页 |
| ·ND_2FE_(14)B/Α-FE/ND_2FE_(14)B 三层薄膜的组织结构分析 | 第28-32页 |
| ·ND_2FE_(14)B/Α-FE/ND_2FE_(14)B 三层薄膜磁性能的研究 | 第32-39页 |
| ·退火温度对薄膜磁性能的影响 | 第34-36页 |
| ·软磁层厚度对复合薄膜磁性能的影响 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 纳米复合永磁薄膜磁化过程的计算机模拟 | 第40-53页 |
| ·微磁学基本理论 | 第40-47页 |
| ·微磁学分析中的各种能量 | 第41-45页 |
| ·微磁学的静态计算方法和动态计算方法 | 第45-47页 |
| ·模拟计算模型及算法 | 第47-50页 |
| ·模型磁体的微结构 | 第47-48页 |
| ·自由能的计算 | 第48页 |
| ·模拟计算采用的磁性参数 | 第48-50页 |
| ·模拟算法的实现 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 ND_2FE_(14)B/Α-FE 双层薄膜磁性能的模拟研究 | 第53-66页 |
| ·软磁层厚度对ND_2FE_(14)B/Α-FE 双层薄膜磁性能的影响 | 第53-57页 |
| ·硬磁层厚度对ND_2FE_(14)B/Α-FE 双层薄膜磁性能的影响 | 第57-61页 |
| ·ND_2FE_(14)B/Α-FE 复合永磁薄膜的垂直磁各向异性 | 第61-62页 |
| ·ND_2FE_(14)B/Α-FE 复合永磁薄膜磁性能模拟结果与实验的比较 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
