| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-12页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第13页 |
| ·ZnO禁带宽度的调节 | 第13-14页 |
| ·ZnO材料的应用 | 第14-16页 |
| ·本论文的研究背景和意义 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-19页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备与性能表征 | 第19-30页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第19-24页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第19页 |
| ·分子束外延 | 第19页 |
| ·化学气相沉积 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶 | 第19-20页 |
| ·蒸发法 | 第20页 |
| ·喷雾热解法 | 第20页 |
| ·磁控溅射 | 第20-24页 |
| ·ZnO薄膜的表征 | 第24-29页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第26-27页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
| ·荧光光致发光谱分析(PL) | 第27-28页 |
| ·紫外-可见分光光度计测量薄膜的透过率和吸收率 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 Cu掺杂对ZnO纳米薄膜的结构及其光学特性的影响 | 第30-41页 |
| ·制备Cu掺杂对ZnO纳米薄膜的实验条件 | 第30-31页 |
| ·不同Cu的掺杂量对ZnO薄膜结构及表面形貌的影响 | 第31-35页 |
| ·样品的XRD分析 | 第31-33页 |
| ·样品的SEM及AFM分析 | 第33-35页 |
| ·不同Cu的掺杂量对ZnO薄膜光学特性的影响 | 第35-38页 |
| ·光致发光(PL) | 第35-37页 |
| ·薄膜的光透射及光学带隙 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第四章 Mg掺杂对ZnO纳米薄膜的结构及光学特性的影响 | 第41-50页 |
| ·制备Mg掺杂对ZnO纳米薄膜的实验条件 | 第41页 |
| ·不同Mg的掺杂量对ZnO薄膜结构及表面形貌的影响 | 第41-45页 |
| ·样品的XRD分析 | 第41-43页 |
| ·样品的SEM及AFM分析 | 第43-45页 |
| ·不同Mg的掺杂量对ZnO薄膜光学特性的影响 | 第45-48页 |
| ·光致发光(PL) | 第45-47页 |
| ·薄膜的光透射及光学带隙 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第五章 总结与展望 | 第50-52页 |
| ·总结 | 第50-51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第53页 |
