| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| ·研究背景与意义 | 第10页 |
| ·国内外研究现状综述 | 第10-13页 |
| ·CMP 抛光工艺参数优化研究现状 | 第11页 |
| ·CMP 抛光表面粗糙度预测研究现状 | 第11页 |
| ·工艺参数数据库研究现状 | 第11-13页 |
| ·目前存在的主要问题 | 第13页 |
| ·研究目标及内容 | 第13-14页 |
| ·研究目标 | 第13页 |
| ·研究内容 | 第13-14页 |
| ·小结 | 第14-15页 |
| 第2章 理论基础 | 第15-23页 |
| ·CMP 平面抛光理论基础 | 第15-16页 |
| ·优化决策理论基础 | 第16-22页 |
| ·田口法简介 | 第16-17页 |
| ·正交试验原理 | 第17-18页 |
| ·方差分析(ANOVA)简介 | 第18-19页 |
| ·BP 神经网络基础 | 第19-21页 |
| ·实例推理简介 | 第21-22页 |
| ·数据库技术 | 第22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 第3章 功能陶瓷CMP 平面抛光工艺参数优化 | 第23-30页 |
| ·功能陶瓷CMP 平面抛光工艺参数分析 | 第23页 |
| ·实验方案设计 | 第23-25页 |
| ·方案设计 | 第23-24页 |
| ·实验设备及耗材 | 第24-25页 |
| ·碳化硅陶瓷CMP 平面抛光正交试验的设计 | 第25-26页 |
| ·确定试验指标及影响因素 | 第25页 |
| ·确定各影响因素的水平 | 第25页 |
| ·设计正交表 | 第25页 |
| ·收集实验数据 | 第25-26页 |
| ·实验数据的分析处理 | 第26-29页 |
| ·田口法优化工艺参数 | 第26-28页 |
| ·工艺参数影响程度的确定 | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第4章 功能陶瓷CMP 平面抛光表面粗糙度预测 | 第30-36页 |
| ·基于MATLAB 平台BP 神经网络工具箱简介 | 第30页 |
| ·功能陶瓷精密CMP 平面抛光表面粗糙度预测模型的建立 | 第30-35页 |
| ·预测模型的建立 | 第30-34页 |
| ·实例对比分析 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第5章 功能陶瓷CMP 平面抛光工艺参数决策与系统开发 | 第36-50页 |
| ·工艺参数决策模型的建立 | 第36-37页 |
| ·工艺参数决策功能需求分析 | 第36页 |
| ·工艺参数决策模型的设计 | 第36-37页 |
| ·工艺参数决策系统的开发 | 第37-47页 |
| ·Powerbuilder 9.0 简介 | 第37-38页 |
| ·Access 介绍 | 第38页 |
| ·工艺参数决策系统的总体框架设计 | 第38-39页 |
| ·工艺参数数据库及其维护模块的开发 | 第39-43页 |
| ·工艺参数决策系统主模块的开发 | 第43页 |
| ·工艺参数决策模块的开发 | 第43-45页 |
| ·表面粗糙度预测模块的开发 | 第45-47页 |
| ·系统调试与实例分析 | 第47-49页 |
| ·工艺参数决策实例 | 第47-48页 |
| ·表面粗糙度预测实例 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 结论与展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及研究成果 | 第56页 |