| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 研究的目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 Cu_2O的基本性质及在光催化领域的应用 | 第12-15页 |
| 1.2.1 Cu_2O的基本性质 | 第12-13页 |
| 1.2.2 Cu_2O的制备 | 第13-14页 |
| 1.2.3 Cu_2O在光催化降解领域的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 TiO_2的基本性质及在光催化领域的应用 | 第15-18页 |
| 1.3.1 TiO_2的基本性质 | 第15-16页 |
| 1.3.2 TiO_2的制备 | 第16-17页 |
| 1.3.3 TiO_2在光催化降解领域的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 纳米复合材料及影响半导体异质结构光催化效率的因素 | 第18-19页 |
| 1.5 纳米Cu_2O/TiO_2异质结的优越性 | 第19-20页 |
| 1.6 Cu_2O/Ti_O2异质结国内外研究进展 | 第20-21页 |
| 1.7 主要研究内容 | 第21-23页 |
| 2 Cu_2O/ITO薄膜的制备及表征 | 第23-29页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-25页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第23页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第23-24页 |
| 2.2.3 实验原理 | 第24页 |
| 2.2.4 实验装置 | 第24页 |
| 2.2.5 Cu_2O/ITO薄膜的表征 | 第24-25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-28页 |
| 2.3.1 Cu_2O/ITO薄膜的XPS分析 | 第25页 |
| 2.3.2 Cu_2O/ITO薄膜的XRD分析 | 第25-26页 |
| 2.3.3 Cu_2O/ITO薄膜的SEM分析 | 第26-27页 |
| 2.3.4 Cu_2O/ITO薄膜的UV-Vis分析 | 第27-28页 |
| 2.4 结论 | 第28-29页 |
| 3 Cu_2O/TiO_2薄膜的制备及性能研究 | 第29-51页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 实验部分 | 第30-33页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第30页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第30-32页 |
| 3.2.3 实验原理 | 第32-33页 |
| 3.2.4 实验装置 | 第33页 |
| 3.3 制备条件对Cu_2O/TiO_2薄膜的影响 | 第33-37页 |
| 3.3.1 沉积电位的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.2 pH的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.3 电解液搅拌速率的影响 | 第35页 |
| 3.3.4 电解液温度的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.5 沉积时间的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 Cu_2O/TiO_2薄膜的表征 | 第37-45页 |
| 3.4.1 Cu_2O/TiO_2薄膜的XPS分析 | 第37-38页 |
| 3.4.2 Cu_2O/TiO_2薄膜的XRD分析 | 第38页 |
| 3.4.3 Cu_2O/TiO_2薄膜的SEM分析 | 第38-42页 |
| 3.4.4 Cu_2O/TiO_2薄膜的Raman分析 | 第42-44页 |
| 3.4.5 Cu_2O/TiO_2薄膜的UV-Vis表征 | 第44-45页 |
| 3.5 退火处理对Cu_2O/TiO_2薄膜性质的影响 | 第45-49页 |
| 3.5.1 300℃退火处理Cu_2O/TiO_2薄膜的XRD表征 | 第45-46页 |
| 3.5.2 退火处理对Cu_2O/TiO_2薄膜的形貌的影响 | 第46-47页 |
| 3.5.3 退火处理对Cu_2O/TiO_2薄膜开路电压的影响 | 第47-48页 |
| 3.5.4 退火处理对Cu_2O/TiO_2薄膜表面电阻率的影响 | 第48-49页 |
| 3.5.5 退火处理对Cu_2O/TiO_2薄膜UV-Vis光谱的影响 | 第49页 |
| 3.6 小结 | 第49-51页 |
| 4 Cu_2O薄膜对次甲基蓝的光催化降解 | 第51-65页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 实验部分 | 第51-54页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器 | 第51页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第51-53页 |
| 4.2.3 实验原理 | 第53-54页 |
| 4.2.4 实验装置 | 第54页 |
| 4.3 Cu_2O/ITO薄膜光催化降解次甲基蓝 | 第54-60页 |
| 4.3.1 催化降解条件响应曲面设计分析 | 第54-58页 |
| 4.3.2 Cu_2O/ITO薄膜催化降解次甲基蓝的动力学过程 | 第58-59页 |
| 4.3.3 Cu_2O/ITO薄膜降解次甲基蓝的光催化性能 | 第59-60页 |
| 4.4 Cu_2O/TiO_2纳米薄膜光催化降解次甲基蓝 | 第60-63页 |
| 4.4.1 Cu_2O/TiO_2薄膜降解次甲基蓝的动力学过程 | 第60-62页 |
| 4.4.2 退火处理对Cu_2O/TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第62-63页 |
| 4.5 小结 | 第63-65页 |
| 5 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 附录 | 第77页 |
