| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第14页 |
| 1.2 固体电解质电化学氧传感器研究与应用 | 第14-22页 |
| 1.2.1 浓差电势型氧传感器 | 第15-16页 |
| 1.2.2 极限电流型氧传感器 | 第16-22页 |
| 1.3 致密扩散障碍层极限电流型氧传感器组成材料 | 第22-26页 |
| 1.3.1 固体电解质 | 第22-25页 |
| 1.3.2 混合导体材料 | 第25-26页 |
| 1.4 致密扩散障碍层极限电流型氧传感器制备方法 | 第26-28页 |
| 1.5 研究内容 | 第28页 |
| 1.6 研究目的与意义 | 第28-29页 |
| 1.7 创新点 | 第29-30页 |
| 第2章 实验过程 | 第30-52页 |
| 2.1 试验材料和仪器设备 | 第30-32页 |
| 2.1.1 试验材料 | 第30-31页 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 | 第31-32页 |
| 2.2 材料制备与检测过程 | 第32-44页 |
| 2.2.1 材料制备过程 | 第32-36页 |
| 2.2.2 物相分析测试 | 第36页 |
| 2.2.3 热膨胀测试 | 第36-37页 |
| 2.2.4 电导率测试 | 第37-41页 |
| 2.2.5 扫描电镜测试 | 第41页 |
| 2.2.6 交流阻抗谱测试 | 第41-43页 |
| 2.2.7 化学相容性检测 | 第43页 |
| 2.2.8 致密度检测 | 第43-44页 |
| 2.3 氧传感器制备过程 | 第44-48页 |
| 2.3.1 瓷片复合法实验过程 | 第44-46页 |
| 2.3.2 共压共烧法实验过程 | 第46-47页 |
| 2.3.3 激光熔覆法实验过程 | 第47-48页 |
| 2.4 氧传感器测试过程 | 第48-52页 |
| 2.4.1 氧传感器测试系统 | 第48-49页 |
| 2.4.2 氧传感器测试过程 | 第49-52页 |
| 第3章 固体电解质及混合导体的性能研究 | 第52-68页 |
| 3.1 引言 | 第52页 |
| 3.2 物相分析 | 第52-54页 |
| 3.3 热膨胀分析 | 第54-55页 |
| 3.4 电导率分析 | 第55-63页 |
| 3.4.1 直流四探针法检测结果 | 第55-59页 |
| 3.4.2 交流阻抗谱法检测结果 | 第59-63页 |
| 3.5 化学相容性分析 | 第63-66页 |
| 3.6 致密度和微观形貌分析 | 第66-67页 |
| 3.7 本章小结 | 第67-68页 |
| 第4章 瓷片复合法制备氧传感器的研究 | 第68-106页 |
| 4.1 引言 | 第68页 |
| 4.2 LSGMC为扩散障碍层的氧传感器性能研究 | 第68-96页 |
| 4.2.1 LSGMC (x=0.5)为扩散障碍层时氧传感器的输出性能 | 第69-84页 |
| 4.2.2 LSGMC (x=0.7)为扩散障碍层的氧传感器的输出性能 | 第84-96页 |
| 4.3 LSGM为扩散障碍层的氧传感器性能研究 | 第96-100页 |
| 4.3.1 I-V关系曲线 | 第97-99页 |
| 4.3.2 I_L-x(O_2)关系 | 第99-100页 |
| 4.3.3 I_L-T关系 | 第100页 |
| 4.4 LSGCM为扩散障碍层的氧传感器性能研究 | 第100-104页 |
| 4.4.1 I-V特性曲线 | 第101-102页 |
| 4.4.2 I_L-x(O_2)关系 | 第102页 |
| 4.4.3 氧传感器阻抗谱分析 | 第102-104页 |
| 4.5 本章小结 | 第104-106页 |
| 第5章 共压共烧法制备氧传感器的研究 | 第106-112页 |
| 5.1 引言 | 第106页 |
| 5.2 固定温度下的I-V关系曲线 | 第106-108页 |
| 5.3 I-x (O_2)关系 | 第108-109页 |
| 5.4 固定氧含量下的I-V关系曲线 | 第109页 |
| 5.5 共压共烧制备氧传感器的截面图 | 第109-110页 |
| 5.6 本章小结 | 第110-112页 |
| 第6章 激光熔覆法制备氧传感器的研究 | 第112-148页 |
| 6.1 激光熔覆技术概况 | 第112-115页 |
| 6.1.1 激光熔覆技术的发展 | 第112页 |
| 6.1.2 激光熔覆的原理 | 第112-113页 |
| 6.1.3 激光熔覆的分类 | 第113-114页 |
| 6.1.4 激光熔覆的特点 | 第114页 |
| 6.1.5 激光熔覆技术面临的难题 | 第114-115页 |
| 6.2 激光熔覆制备的工艺参数 | 第115-116页 |
| 6.2.1 激光功率P | 第115页 |
| 6.2.2 光斑直径D | 第115-116页 |
| 6.2.3 扫描速度v | 第116页 |
| 6.2.4 预热温度T和其他因素 | 第116页 |
| 6.3 激光熔覆制备混合导体为熔覆层氧传感器的研究 | 第116-135页 |
| 6.3.1 激光熔覆工艺参数 | 第116-117页 |
| 6.3.2 工艺参数对熔覆层几何尺寸的影响 | 第117-118页 |
| 6.3.3 工艺参数对截面显微结构的影响 | 第118-134页 |
| 6.3.4 熔覆层表面形貌分析 | 第134-135页 |
| 6.4 激光熔覆制备固体电解质为熔覆层氧传感器的研究 | 第135-145页 |
| 6.4.1 形貌和熔覆质量分析 | 第135-138页 |
| 6.4.2 成分分析 | 第138-145页 |
| 6.5 本章小结 | 第145-148页 |
| 第7章 结论 | 第148-152页 |
| 参考文献 | 第152-162页 |
| 攻读学位期间研究成果 | 第162-164页 |
| 致谢 | 第164-166页 |
| 作者简介 | 第166-168页 |
