| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-10页 |
| 1.3 论文研究内容及主要工作 | 第10页 |
| 1.4 论文组织结构 | 第10-12页 |
| 第二章 时域有限差分技术 | 第12-26页 |
| 2.1 前言 | 第12页 |
| 2.2 有限差分技术理论 | 第12-17页 |
| 2.2.1 Yee元胞与FDTD的迭代方程 | 第12-13页 |
| 2.2.2 计算域的安排 | 第13-14页 |
| 2.2.3 解的稳定性 | 第14-15页 |
| 2.2.4 吸收边界条件 | 第15页 |
| 2.2.5 平面波的引入 | 第15-17页 |
| 2.3 SIBC的研究 | 第17-25页 |
| 2.3.1 引入表面阻抗边界的必要性 | 第17页 |
| 2.3.2 非色散表面阻抗边界条件 | 第17-21页 |
| 2.3.3 频率色散SIBC | 第21-23页 |
| 2.3.4 循环校正技术 | 第23-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 表面阻抗边界条件在FDTD算法中的实现 | 第26-48页 |
| 3.1 前言 | 第26页 |
| 3.2 平面导体结构的时域表面阻抗 | 第26-35页 |
| 3.2.1 平面导体结构模型 | 第26-30页 |
| 3.2.2 损耗媒质半空间算例分析 | 第30-31页 |
| 3.2.3 立方体模型算例分析 | 第31-35页 |
| 3.3 曲面导体结构的时域表面阻抗 | 第35-47页 |
| 3.3.1 曲面导体结构模型 | 第35-38页 |
| 3.3.2 SIBC公式在时域中的推导 | 第38-39页 |
| 3.3.3 基于解析式建模的目标共形SIBC-FDTD算例验证及分析 | 第39-45页 |
| 3.3.4 复杂目标SIBC-FDTD算例验证及分析 | 第45-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 有耗介质涂覆金属目标电磁散射的SIBC-FDTD分析 | 第48-64页 |
| 4.1 前言 | 第48页 |
| 4.2 电磁波垂直入射薄涂层的SIBC-FDTD方法分析 | 第48-54页 |
| 4.2.1 薄层涂覆导体的时域SIBC | 第48-50页 |
| 4.2.2 SIBC在FDTD方法中的实现 | 第50-52页 |
| 4.2.3 电磁波垂直入射的数值算例 | 第52-54页 |
| 4.3 电磁波斜入射涂覆导体的SIBC-FDTD方法分析 | 第54-63页 |
| 4.3.1 电磁波斜入射涂覆导体的时域SIBC表达式 | 第54-58页 |
| 4.3.2 SIBC公式在FDTD中的实现 | 第58-60页 |
| 4.3.3 电磁波斜入射的数值算例 | 第60-62页 |
| 4.3.4 复杂模型算例分析 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 色散媒质涂覆金属目标电磁散射的SIBC-FDTD分析 | 第64-76页 |
| 5.1 前言 | 第64页 |
| 5.2 导体表面色散媒质涂层的表面阻抗模型 | 第64-65页 |
| 5.3 色散涂层的SIBC在FDTD中的实现 | 第65-71页 |
| 5.3.1 频域中的SIBC | 第65-66页 |
| 5.3.2 时域中的表面阻抗边界条件 | 第66-68页 |
| 5.3.3 SIBC在FDTD中的实现 | 第68-71页 |
| 5.4 算例验证和分析 | 第71-74页 |
| 5.4.1 反射系数的数值模拟 | 第71-73页 |
| 5.4.2 二维方柱算例 | 第73-74页 |
| 5.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 第六章 总结与展望 | 第76-78页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第76页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 附录：卷积的详细计算过程 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
