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全氟羧酸降解反应机理及其金属配合物光电性质的理论研究

中文摘要第3-5页
abstract第5-7页
1 绪论第11-19页
    1.1 全氟羧酸简介第11-12页
    1.2 全氟羧酸降解方法的研究进展第12-16页
        1.2.1 传统降解方法第12页
        1.2.2 紫外光直接降解第12-13页
        1.2.3 紫外光氧化降解第13-16页
        1.2.4 紫外光还原降解第16页
    1.3 研究内容、方法和意义第16-19页
2 理论基础与计算方法第19-24页
    2.1 密度泛函理论(DensityFunctionalMethods)第19-21页
        2.1.1 Hohenberg-Kohn定理第19-20页
        2.1.2 Kohn-Sham方程第20-21页
    2.2 基组的选择第21页
    2.3 过渡态理论第21-22页
    2.4 电子光谱第22-24页
3 全氟辛酸(PFOA)热降解反应机理的理论研究第24-38页
    3.1 前言第24-25页
    3.2 理论模型与计算方法第25页
    3.3 结果与讨论第25-36页
        3.3.1 反应机理第29-33页
            3.3.1.1 五元环反应机理第29-30页
            3.3.1.2 六元环反应机理第30-32页
            3.3.1.3 直接脱CO、CO_2、CF_2反应机理第32-33页
        3.3.2 能量分析第33-34页
        3.3.3 主反应通道速控步骤的热力学、动力学性质第34-35页
            3.3.3.1 热力学性质第34-35页
            3.3.3.2 动力学性质第35页
        3.3.4 主反应通道速控步骤的NBO电荷、键级分析第35-36页
            3.3.4.1 NBO电荷第35-36页
            3.3.4.2 NBO键级第36页
    3.4 本章小结第36-38页
4 ·OH进攻下全氟丙酸金属催化脱氟降解机理的理论研究第38-53页
    4.1 前言第38-39页
    4.2 理论模型与计算方法第39页
    4.3 结果与讨论第39-51页
        4.3.1 反应路径分析第41-44页
            4.3.1.1 脱HF和CO阶段第41-42页
            4.3.1.2 在·OH进攻下脱HF阶段第42-44页
        4.3.2 金属对光降解反应影响第44-51页
            4.3.2.1 反应机理分析第45-47页
            4.3.2.2 反应能量分析第47-48页
            4.3.2.3 NBO分析第48-51页
                4.3.2.3.1 电荷分析第48-49页
                4.3.2.3.2 键级分析第49-50页
                4.3.2.3.3 静电势图第50-51页
    4.4 本章小结第51-53页
5 全氟辛酸及金属配合物光电性质的理论研究第53-72页
    5.1 前言第53-54页
    5.2 理论模型与计算方法第54-55页
    5.3 结果和讨论第55-70页
        5.3.1 基态几何构型第55-58页
            5.3.1.1 电荷布局分析第55-57页
            5.3.1.2 静电势图分析第57-58页
            5.3.1.3 键能分析第58页
        5.3.2 电子性质第58-60页
        5.3.3 前线分子轨道第60-61页
        5.3.4 电子光谱第61-66页
            5.3.4.1 PFOA的电子光谱第61-63页
            5.3.4.2 PFOA金属配合物的电子光谱第63-66页
        5.3.5 激发态结构第66-68页
        5.3.6 PFCAs(C4~C8)的降解难易程度比较第68-70页
    5.4 本章小结第70-72页
6 结论与展望第72-74页
    6.1 研究结论第72-73页
    6.2 展望第73-74页
参考文献第74-81页
硕士研究生期间发表的论文第81-82页
致谢第82页

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