钼栅网微细光刻电解加工试验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 图表清单 | 第9-11页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·钼栅网微细加工技术概况 | 第12-17页 |
| ·微细激光加工技术 | 第13-14页 |
| ·微细电加工 | 第14-15页 |
| ·光化学蚀刻技术 | 第15-16页 |
| ·电子束、离子束等其它微细加工 | 第16-17页 |
| ·微细光刻电解加工技术特点 | 第17-22页 |
| ·光刻加工工艺 | 第17-19页 |
| ·法拉第定律 | 第19-20页 |
| ·微细电解加工特点分析 | 第20-22页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第22-24页 |
| 第二章 掩蔽阴极设计及电场分析 | 第24-30页 |
| ·掩蔽阴极方法 | 第24-26页 |
| ·掩蔽阴极方法及原理 | 第24页 |
| ·有限元模型的建立 | 第24-26页 |
| ·电场分析 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 微细光刻电解加工试验系统 | 第30-38页 |
| ·光刻图案转移过程 | 第30-31页 |
| ·电解加工 | 第31-37页 |
| ·单面加工与双面加工方法的选择 | 第31页 |
| ·加工电源 | 第31-33页 |
| ·电解液 | 第33-36页 |
| ·电解加工参数 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 光刻电解工艺试验 | 第38-52页 |
| ·光刻工艺 | 第38-39页 |
| ·电解单因素试验 | 第39-43页 |
| ·电解液浓度 | 第40-41页 |
| ·电流密度 | 第41-42页 |
| ·阴极直径 | 第42-43页 |
| ·极间间隙 | 第43页 |
| ·Taguchi 试验设计 | 第43-45页 |
| ·Taguchi 数据分析 | 第45-48页 |
| ·电源工作方式对加工精度的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-54页 |
| ·论文完成的主要工作 | 第52页 |
| ·工作展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第58-59页 |
| 附图 | 第59页 |
