| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| ·TIO_2薄膜的光学特性 | 第8-9页 |
| ·TIO_2薄膜的电学特性 | 第9-10页 |
| ·TIO_2薄膜的光催化特性 | 第10-13页 |
| ·本论文的研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 TiO_2光催化特性的研究 | 第14-22页 |
| ·TIO_2光催化反应机理 | 第14-16页 |
| ·影响 TIO_2半导体光催化活性的主要因素 | 第16-17页 |
| ·TiO_2晶体结构的影响 | 第16页 |
| ·晶格缺陷的影响 | 第16页 |
| ·粒径影响 | 第16-17页 |
| ·提高 TIO_2光催化活性的方法 | 第17-22页 |
| ·可见光的利用率 | 第18-19页 |
| ·电子-空穴的复合率 | 第19-22页 |
| 第3章 TiO_2薄膜的测试分析手段 | 第22-28页 |
| ·X 射线衍射（XRD）与 X 射线光子能谱（XPS） | 第22-24页 |
| ·电子显微镜 | 第24-27页 |
| ·紫外-可见光光度计 | 第27页 |
| ·红外光谱 | 第27页 |
| ·拉曼光谱 | 第27-28页 |
| 第4章 实验制备 TiO_2薄膜 | 第28-34页 |
| ·TIO_2薄膜的制备方法简介 | 第28-31页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第28-29页 |
| ·化学气相沉积法 | 第29页 |
| ·磁控溅射法 | 第29-31页 |
| ·TIO_2薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·TIO_2薄膜的热退火处理 | 第32-33页 |
| ·TIO_2薄膜的表征及性能检测 | 第33-34页 |
| 第5章 结果与讨论 | 第34-42页 |
| ·TIO_2薄膜光催化性能评测 | 第34-35页 |
| ·退火对 TIO_2薄膜晶体结构、成分的影响 | 第35-40页 |
| ·晶体结构的 XRD 分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜表面形貌的 AFM 分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜微观结构的 SEM 分析 | 第37-38页 |
| ·薄膜微观结构的 TEM 分析 | 第38-40页 |
| ·退火对 TIO_2薄膜的光学性能影响 | 第40-41页 |
| ·光学特性的紫外-可见光吸收光谱分析 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第6章 总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和参加的科研项目 | 第48页 |