首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工程材料学论文--工程材料一般性问题论文

等离子处理对Al2O3和SiC单晶表面结构影响的AFM研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第1章 绪论第8-22页
    1.1 课题研究的背景和意义第8-11页
    1.2 氧化铝和碳化硅简介第11-13页
    1.3 等离子体及干法蚀刻技术简介第13-15页
    1.4 氧化铝干法蚀刻的研究进展第15-18页
    1.5 碳化硅干法蚀刻的研究进展第18-20页
    1.6 国内外研究现状分析第20-21页
    1.7 本课题主要研究内容第21-22页
第2章 实验材料与实验方法第22-27页
    2.1 实验药品及材料第22-23页
    2.2 实验仪器及表征方法第23-24页
    2.3 实验方法第24-26页
        2.3.1 SiC单晶的清洗第24页
        2.3.2 Al_2O_3单晶的清洗第24-25页
        2.3.3 腔体等离子体均匀性测试方法第25-26页
    2.4 实验方案流程第26-27页
第3章 等离子体发生器腔体等离子体均匀性研究第27-36页
    3.1 利用石墨为研究对象进行均匀性研究第27-32页
    3.2 利用云母为研究对象进行均匀性研究第32-35页
    3.3 本章小结第35-36页
第4章 等离子处理对Al_2O_3表面结构的影响作用研究第36-51页
    4.1 低功率等离子体处理对Al_2O_3表面结构的影响作用研究第36-38页
        4.1.1 辐照时间和压强的的影响作用第37-38页
    4.2 高功率等离子处理对Al_2O_3表面结构的影响作用研究第38-44页
        4.2.1 压强的影响第39-40页
        4.2.2 辐照时间的影响第40-42页
        4.2.3 功率的影响第42-44页
    4.3 高温退火处理对Al_2O_3表面结构的影响作用研究第44-49页
        4.3.1 等离子处理前退火的影响第44-47页
        4.3.2 等离子处理后退火的影响第47-49页
    4.4 等离子处理影响Al_2O_3表面结构的机理探讨第49-50页
    4.5 本章小结第50-51页
第5章 等离子体处理对SiC表面结构影响作用的初步研究第51-61页
    5.1 功率的影响第51-52页
    5.2 辐照时间的影响第52-54页
    5.3 间歇辐照的影响第54-57页
        5.3.1 功率为 6.5 W时累积效应的影响第54-55页
        5.3.2 功率为 18 W时累积效应的影响第55-57页
    5.4 后退火对等离子体处理的SiC表面结构的影响作用研究第57-59页
    5.5 本章小结第59-61页
结论第61-62页
参考文献第62-67页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第67-69页
致谢第69页

论文共69页,点击 下载论文
上一篇:基于FLUENT的耐火料湿喷机喷补装置优化设计
下一篇:碳纤维复合材料的结构对辐射特性的影响