铜光谱发射率特性研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 铜的光谱发射率研究现状 | 第11-14页 |
| 1.3 研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 红外辐射理论及测量装置介绍 | 第15-27页 |
| 2.1 基本红外辐射理论 | 第15-17页 |
| 2.1.1 基尔霍夫定律 | 第15-16页 |
| 2.1.2 普朗克定律 | 第16-17页 |
| 2.1.3 维恩位移定律 | 第17页 |
| 2.1.4 斯忒藩-玻尔兹曼定律 | 第17页 |
| 2.2 红外辐射测量仪器 | 第17-21页 |
| 2.2.1 单色仪 | 第17-19页 |
| 2.2.2 红外光谱辐射仪 | 第19-21页 |
| 2.3 基于傅里叶红外光谱仪的发射率测量装置 | 第21-24页 |
| 2.3.1 装置结构介绍 | 第21-23页 |
| 2.3.2 基于能量对比法的测量原理介绍 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-27页 |
| 第三章 铜表面粗糙度与发射率关系模型 | 第27-41页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 表面粗糙度介绍 | 第27-30页 |
| 3.3 样品的制备方法 | 第30-31页 |
| 3.4 实验过程 | 第31-32页 |
| 3.5 实验结果与讨论 | 第32-38页 |
| 3.5.1 温度和波长对发射率的影响 | 第32-33页 |
| 3.5.2 样品表面粗糙度与发射率的关系 | 第33-34页 |
| 3.5.3 表面粗糙度对发射率的关系模型探究 | 第34-38页 |
| 3.6 本章小结 | 第38-41页 |
| 第四章 几种铜合金氧化前后发射率对比 | 第41-51页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 样品的制备方法 | 第41-42页 |
| 4.3 实验过程 | 第42-43页 |
| 4.4 实验结果与讨论 | 第43-49页 |
| 4.4.1 三种铜合金未氧化时发射率对比 | 第43-44页 |
| 4.4.2 三种铜合金氧化前后发射率对比 | 第44-46页 |
| 4.4.3 三种铜合金氧化后的发射率对比 | 第46-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 铜的方向发射率 | 第51-57页 |
| 5.1 引言 | 第51-52页 |
| 5.2 测量装置介绍 | 第52-54页 |
| 5.3 样品处理和测量过程 | 第54页 |
| 5.4 测量结果和讨论 | 第54-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 6.1 主要内容与结果 | 第57页 |
| 6.2 展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间的科研成果 | 第64-65页 |
