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高光效GaN基高压LED器件制备

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-28页
    1.1 课题的研究背景及其意义第10-11页
    1.2 GaN基高压LED概述第11-16页
    1.3 提升GaN基高压LED芯片光电性能的主要方法第16-26页
        1.3.1 影响LED芯片光提取效率的主要因素第16-18页
        1.3.2 提高LED光提取效率的主要方法第18-26页
        1.3.3 提升高压LED光电性能的研究现状第26页
    1.4 本文主要研究内容第26-28页
第二章 GaN基高压LED芯片制备第28-40页
    2.1 GaN基LED外延片制备第28-29页
    2.2 GaN基高压LED芯片制备关键工艺第29-32页
    2.3 具有背面反射镜的GaN基高压LED芯片制备第32-39页
        2.3.1 复合反射镜的设计第32-33页
        2.3.2 具有背面反射镜的GaN基高压LED芯片制备第33-38页
        2.3.3 芯片测试第38-39页
    2.4 本章小结第39-40页
第三章 侧面出光优化仿真第40-48页
    3.1 引言第40页
    3.2 仿真模型建立及结果分析第40-46页
        3.2.1 芯片形状优化第41-43页
        3.2.2 侧面微结构优化第43-46页
        3.2.3 隔离沟槽间距优化第46页
    3.3 本章小结第46-48页
第四章 隔离沟槽宽度对GaN基高压LED发光性能的影响第48-53页
    4.1 引言第48页
    4.2 芯片制备第48-50页
    4.3 结果分析第50-52页
    4.4 本章小结第52-53页
第五章 GaN基高压LED器件的COB封装第53-59页
    5.1 COB封装工艺流程第53页
    5.2 器件封装第53-55页
    5.3 测试与结果分析第55-58页
    5.4 本章小结第58-59页
总结与展望第59-61页
    工作总结第59-60页
    工作展望第60-61页
参考文献第61-67页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第67-68页
致谢第68-69页
附件第69页

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