| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 甲烷干重整研究背景 | 第13页 |
| 1.3 甲烷干重整热力学研究 | 第13-16页 |
| 1.4 甲烷干重整催化剂研究概况 | 第16-25页 |
| 1.4.1 活性组分 | 第17-19页 |
| 1.4.2 载体类型 | 第19-21页 |
| 1.4.3 助剂种类 | 第21-23页 |
| 1.4.4 制备方法 | 第23-25页 |
| 1.5 本论文的选题依据和研究内容 | 第25-28页 |
| 1.5.1 选题依据 | 第25-26页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第26页 |
| 1.5.3 论文创新点 | 第26-28页 |
| 第二章 研究方法和表征手段 | 第28-35页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第28-29页 |
| 2.1.1 实验试剂及相关气体 | 第28页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.2 催化剂在甲烷干重整反应中的活性测试 | 第29-31页 |
| 2.2.1 催化剂活性测试方法 | 第29-30页 |
| 2.2.2 数据处理方法 | 第30-31页 |
| 2.3 催化剂的表征手段 | 第31-35页 |
| 2.3.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第31-32页 |
| 2.3.2 N_2物理吸附脱附分析 | 第32页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第32页 |
| 2.3.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第32-33页 |
| 2.3.5 CO_2程序升温脱附(CO_2-TPD) | 第33页 |
| 2.3.6 紫外-可见漫反射表征(UV-visDRS) | 第33页 |
| 2.3.7 X-射线光电子能谱(XPS) | 第33页 |
| 2.3.8 原子吸收光谱(AAS) | 第33-34页 |
| 2.3.9 热重分析(TG/DTG或者TG/DSC) | 第34-35页 |
| 第三章 双孔Ni/SiO_2催化剂的合成及其在CH_4/CO_2反应中的催化性能研究 | 第35-51页 |
| 3.1 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.1.1 催化剂的制备 | 第35-36页 |
| 3.1.1.1 双孔载体的合成 | 第35-36页 |
| 3.1.1.2 镍基催化剂的制备 | 第36页 |
| 3.1.2 甲烷干重整反应活性测试 | 第36页 |
| 3.2 BS-x系列载体的结构表征与分析讨论 | 第36-40页 |
| 3.2.1 BS-x系列载体的N_2物理吸脱附表征 | 第36-38页 |
| 3.2.2 BS-x系列载体的TEM表征 | 第38-39页 |
| 3.2.3 BS-x系列载体的小角XRD表征 | 第39-40页 |
| 3.3 镍基催化剂Ni/BS-x的物理化学性质 | 第40-45页 |
| 3.3.1 Ni/BS-x系列催化剂的N_2物理吸脱附表征 | 第40-42页 |
| 3.3.2 Ni/BS-x系列催化剂的广角XRD测试 | 第42-43页 |
| 3.3.3 Ni/BS-x系列催化剂的H_2-TPR表征 | 第43-45页 |
| 3.4 Ni/BS-x系列催化剂的甲烷干重整催化活性测试结果 | 第45-46页 |
| 3.5 反应后Ni/BS-x催化剂的表征 | 第46-50页 |
| 3.5.1 反应后Ni/BS-x催化剂的广角XRD测试 | 第46-47页 |
| 3.5.2 反应后Ni/BS-x催化剂的TEM表征 | 第47-48页 |
| 3.5.3 反应后Ni/BS-x催化剂的TG/DTG分析 | 第48-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 锆掺杂镍基催化剂Ni-Zr/SiO_2的合成及其在CH_4/CO_2反应中的催化性能研究 | 第51-68页 |
| 4.1 实验部分 | 第52页 |
| 4.1.1 催化剂的制备 | 第52页 |
| 4.1.2 甲烷二氧化碳重整反应活性测试 | 第52页 |
| 4.2 焙烧后Zr修饰镍基催化剂的表征 | 第52-60页 |
| 4.2.1 Ni-xZr/BS-48系列催化剂的N_2物理吸脱附表征 | 第52-54页 |
| 4.2.2 Ni-xZr/BS-48系列催化剂的广角XRD表征 | 第54-56页 |
| 4.2.3 Ni-xZr/BS-48系列催化剂的TEM表征 | 第56-57页 |
| 4.2.4 Ni-xZr/BS-48系列催化剂的H_2-TPR表征 | 第57-59页 |
| 4.2.5 Ni-xZr/BS-48系列催化剂的CO_2-TPD表征 | 第59-60页 |
| 4.3 Ni-xZr/BS-48系列催化剂的活性测试 | 第60-62页 |
| 4.4 反应后催化剂的结构表征 | 第62-67页 |
| 4.4.1 反应后Ni-xZr/BS-48催化剂的N_2物理吸脱附表征 | 第62-63页 |
| 4.4.2 反应后Ni-xZr/BS-48催化剂的广角XRD表征 | 第63-64页 |
| 4.4.3 反应后Ni-xZr/BS-48催化剂的TEM测试 | 第64-65页 |
| 4.4.4 反应后Ni-xZr/BS-48催化剂的TG/DSC分析 | 第65-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 一步法合成高活性双孔Ni-SiO_2催化剂及其在CH_4/CO_2反应中的催化性能研究 | 第68-86页 |
| 5.1 实验部分 | 第69-70页 |
| 5.1.1 催化剂的制备 | 第69-70页 |
| 5.1.2 甲烷干重整反应活性测试 | 第70页 |
| 5.2 M-SiO_2、B-SiO_2载体的物理化学特征、形态和孔隙有序性表征 | 第70页 |
| 5.3 焙烧后镍基催化剂的结构表征与结果讨论 | 第70-79页 |
| 5.3.1 镍基催化剂的N_2物理吸脱附表征 | 第70-72页 |
| 5.3.2 镍基催化剂的广角XRD分析 | 第72-73页 |
| 5.3.3 镍基催化剂的TEM分析 | 第73-75页 |
| 5.3.4 镍基催化剂的H_2-TPR分析 | 第75-76页 |
| 5.3.5 镍基催化剂的UV-visDRS表征 | 第76-77页 |
| 5.3.6 镍基催化剂的XPS分析 | 第77-79页 |
| 5.4 镍基催化剂在甲烷干重整反应中催化性能测试 | 第79-81页 |
| 5.5 反应后镍基催化剂的结构表征 | 第81-85页 |
| 5.5.1 反应后镍基催化剂的TG/DTG测试 | 第81-82页 |
| 5.5.2 反应后镍基催化剂的广角XRD测试 | 第82页 |
| 5.5.3 反应后镍基催化剂的N_2物理吸脱附表征 | 第82-84页 |
| 5.5.4 反应后镍基催化剂的TEM分析 | 第84-85页 |
| 5.6 本章小结 | 第85-86页 |
| 结论与展望 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-104页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-107页 |
| 附录 | 第107页 |
