氧化亚铜电沉积过程的椭圆偏振光谱法研究
| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 镍的基本属性 | 第9页 |
| 1.2 金属着色技术 | 第9-12页 |
| 1.3 氧化亚铜薄膜电沉积 | 第12-15页 |
| 1.3.1 氧化亚铜电沉积基本原理 | 第12-13页 |
| 1.3.2 氧化亚铜电沉积体系 | 第13-15页 |
| 1.4 椭偏在干涉薄膜测量中的应用 | 第15-17页 |
| 1.5 课题研究内容 | 第17-19页 |
| 2 实验 | 第19-31页 |
| 2.1 实验仪器、药品及材料 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第19页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第19-20页 |
| 2.1.3 实验材料 | 第20页 |
| 2.2 溶液配方 | 第20-21页 |
| 2.3 实验过程 | 第21-23页 |
| 2.4 研究方法 | 第23-31页 |
| 2.4.1 Hull槽试验 | 第23页 |
| 2.4.2 脉冲电沉积 | 第23-24页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜 | 第24页 |
| 2.4.4 X射线光电子能谱仪 | 第24-25页 |
| 2.4.5 椭圆偏振光谱法 | 第25-31页 |
| 3 椭圆偏振光谱数据解析 | 第31-41页 |
| 3.1 SEM表征结果 | 第31-32页 |
| 3.2 XPS表征结果 | 第32-35页 |
| 3.3 椭圆偏振光谱数据解析过程 | 第35-41页 |
| 4 直流彩色电沉积过程的椭圆偏振光谱研究 | 第41-67页 |
| 4.1 直流Hull槽实验 | 第41-61页 |
| 4.1.1 柠檬酸钠的影响 | 第42-52页 |
| 4.1.2 酒石酸钾钠的影响 | 第52-61页 |
| 4.2 直流电沉积实验 | 第61-67页 |
| 5 脉冲彩色电沉积过程的椭圆偏振光谱研究 | 第67-77页 |
| 5.1 脉冲电沉积概述 | 第67-68页 |
| 5.2 脉冲Hull槽实验 | 第68-73页 |
| 5.3 脉冲电沉积实验 | 第73-77页 |
| 6 结论与展望 | 第77-79页 |
| 6.1 结论 | 第77页 |
| 6.2 展望 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 附录 | 第85页 |
