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激光热辅助磁存储传热机理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-19页
    1.1 课题的来源第9-10页
    1.2 研究的目的和意义第10-11页
    1.3 国内外研究现状第11-17页
        1.3.1 磁存储发展现状第11-13页
        1.3.2 热辅助磁存储研究现状第13-15页
        1.3.3 硬盘传热研究现状第15-17页
    1.4 主要研究内容第17-19页
第2章 基于双曲传热的磁盘传热模型第19-34页
    2.1 磁盘激光加热下的物理过程及其特点第19页
    2.2 基于傅里叶导热定律的传热模型的建立第19-22页
    2.3 基于玻尔兹曼方程的双曲传热方程的建立第22-28页
        2.3.1 双曲传热方程的推导第22-26页
        2.3.2 双曲传热方程的特性分析第26-28页
    2.4 基于双曲传热的磁盘传热模型的建立第28-33页
        2.4.1 基于双曲传热模型进行磁盘传热求解的合理性分析第28-32页
        2.4.2 磁盘传热模型的建立第32-33页
    2.5 本章小结第33-34页
第3章 磁盘激光加热传热特性及热变形研究第34-60页
    3.1 磁盘激光加热有限元模型的建立第34-35页
    3.2 激光参数对磁盘传热的影响规律第35-42页
        3.2.1 激光功率的影响第37-39页
        3.2.2 激光光斑的影响第39页
        3.2.3 激光脉冲的影响第39-42页
    3.3 磁盘参数对磁盘传热的影响规律第42-47页
        3.3.1 磁盘材料参数的影响第42-43页
        3.3.2 磁盘几何参数的影响第43-45页
        3.3.3 磁盘速度的影响第45-47页
    3.4 基底对磁盘传热的影响规律第47-53页
        3.4.1 考虑基底的磁盘仿真模型的建立第47-48页
        3.4.2 考虑基底的磁盘传热分析第48-53页
    3.5 基于多物理场的磁盘热变形研究第53-59页
        3.5.1 磁盘热变形对比分析第53-55页
        3.5.2 基底材料为金时的磁盘双层模型热变形第55-57页
        3.5.3 基底材料为玻璃时的磁盘双层模型热变形第57-59页
    3.6 本章小结第59-60页
第4章 多层介质近场辐射换热研究第60-74页
    4.1 近场辐射换热模型的建立第60-61页
    4.2 多层介质二阶格林函数(DGF)的计算第61-65页
    4.3 散射矩阵法对场振幅系数的求解第65-68页
        4.3.1 散射矩阵法第65-66页
        4.3.2 振幅系数的计算第66-68页
    4.4 近场辐射热通量的数值计算结果第68-73页
        4.4.1 Si C的材料特性第69页
        4.4.2 热源层是半空间层的辐射换热热通量第69-71页
        4.4.3 热源层是薄膜层的辐射换热热通量第71-73页
    4.5 本章小结第73-74页
结论第74-76页
参考文献第76-81页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第81-83页
致谢第83页

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