摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 研究背景与意义 | 第11-12页 |
1.2 纳米多孔模板的国内外研究现状 | 第12-21页 |
1.2.1 径迹蚀刻聚合物膜 | 第12-13页 |
1.2.2 阳极氧化铝模板 | 第13-15页 |
1.2.3 硅基多孔模板 | 第15-19页 |
1.2.4 嵌段共聚物薄膜 | 第19-21页 |
1.3 一维纳米磁性材料的国内外研究现状 | 第21-23页 |
1.3.1 磁性纳米线 | 第21页 |
1.3.2 磁性纳米管 | 第21-23页 |
1.4 本论文主要工作内容和意义 | 第23-25页 |
第二章 实验基本原理与器材 | 第25-32页 |
2.1 阳极氧化铝的形成机理 | 第25-27页 |
2.1.1 场致溶解理论 | 第25-26页 |
2.1.2 体膨胀应力理论 | 第26页 |
2.1.3 其他理论 | 第26-27页 |
2.2 电沉积基础理论 | 第27-30页 |
2.2.1 电沉积基本原理 | 第28-29页 |
2.2.2 合金的电沉积理论 | 第29-30页 |
2.3 实验器材 | 第30-32页 |
2.3.1 实验设备 | 第30-31页 |
2.3.2 实验材料 | 第31-32页 |
第三章 阳极氧化铝模板的制备与研究 | 第32-47页 |
3.1 草酸体系二次阳极软氧化工艺 | 第32-39页 |
3.1.1 阳极软氧化工艺流程 | 第32-34页 |
3.1.2 氧化电压的影响 | 第34-36页 |
3.1.3 氧化温度的影响 | 第36-39页 |
3.2 草酸体系阳极硬氧化工艺 | 第39-46页 |
3.2.1 阳极硬氧化工艺流程 | 第39-40页 |
3.2.2 氧化时间的影响 | 第40页 |
3.2.3 去阻挡层条件的影响 | 第40-43页 |
3.2.4 扩孔条件的影响 | 第43-44页 |
3.2.5 阳极硬氧化工艺的改良 | 第44-46页 |
3.3 本章小结 | 第46-47页 |
第四章 硅基纳米多孔模板的制备与研究 | 第47-56页 |
4.1 附着型硅基阳极氧化铝模板 | 第47-49页 |
4.1.1 附着型硅基阳极氧化铝模板的制备 | 第47-48页 |
4.1.2 附着型硅基阳极氧化铝模板的表征 | 第48-49页 |
4.2 金属辅助化学刻蚀制备多孔硅 | 第49-54页 |
4.2.1 金属辅助化学刻蚀制备多孔硅工艺流程 | 第49-50页 |
4.2.2 PS-b-P2VP嵌段共聚物的合成 | 第50-52页 |
4.2.3 有序纳米金纳米颗粒点阵的制备 | 第52-53页 |
4.2.4 金属辅助化学刻蚀 | 第53-54页 |
4.3 本章小结 | 第54-56页 |
第五章 一维磁性纳米材料的制备与研究 | 第56-81页 |
5.1 不同孔间距Fe纳米线阵列的制备与研究 | 第56-60页 |
5.1.1 不同孔间距的Fe纳米线的制备 | 第56-57页 |
5.1.2 不同孔间距的Fe纳米线的表征 | 第57-60页 |
5.2 Fe纳米线阵列高频电磁性能的研究 | 第60-66页 |
5.2.1 Fe纳米线阵列和测试样品的制备 | 第62-63页 |
5.2.2 Fe纳米线阵列的表征 | 第63-66页 |
5.3 Fe-P合金纳米线和的制备与研究 | 第66-77页 |
5.3.1 电沉积Fe-P合金纳米线的工艺流程 | 第67-69页 |
5.3.2 甘氨酸浓度对电沉积Fe-P合金纳米线的影响 | 第69-70页 |
5.3.3 次亚磷酸钠浓度对电沉积Fe-P合金纳米线的影响 | 第70-71页 |
5.3.4 沉积电压对电沉积Fe-P合金纳米线的影响 | 第71-73页 |
5.3.5 退火对非晶态Fe-P合金纳米线的影响 | 第73-77页 |
5.4 Fe-P合金纳米管的制备与研究 | 第77-80页 |
5.4.1 Fe-P合金纳米管的制备 | 第77页 |
5.4.2 Fe-P合金纳米管的表征 | 第77-78页 |
5.4.3 退火对非晶Fe-P合金纳米管的影响 | 第78-80页 |
5.5 本章小结 | 第80-81页 |
第六章 结论和展望 | 第81-82页 |
6.1 结论 | 第81页 |
6.2 展望 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
参考文献 | 第83-92页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第92-93页 |