| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 太赫兹科学技术 | 第10-13页 |
| 1.1.1 太赫兹简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 太赫兹源技术 | 第11-13页 |
| 1.2 切伦科夫辐射 | 第13-19页 |
| 1.2.1 自由电子的辐射 | 第13-14页 |
| 1.2.2 切伦科夫辐射理论 | 第14-18页 |
| 1.2.3 切伦科夫尾场 | 第18-19页 |
| 1.3 基于切伦科夫尾场的辐射源 | 第19-20页 |
| 1.4 表面等离子切伦科夫辐射源 | 第20-21页 |
| 1.5 本论文的结构安排 | 第21-23页 |
| 第二章 均匀介质部分填充圆波导切伦科夫尾场辐射研究 | 第23-54页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 电子团激发均匀介质部分填充的圆波导理论 | 第23-29页 |
| 2.2.1 均匀介质部分填充的圆波导的本征模式 | 第24-27页 |
| 2.2.2 均匀介质部分填充的圆波导的功率分析 | 第27-29页 |
| 2.3 均匀介质部分填充的圆波导的数值计算分析 | 第29-53页 |
| 2.3.1 横向电磁场分布 | 第29-31页 |
| 2.3.2 工作模式特性 | 第31-38页 |
| 2.3.3 单电子团激励 | 第38-49页 |
| 2.3.4 周期性电子团激励 | 第49-53页 |
| 2.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第三章 工作频率为 1THZ的辐射源设计 | 第54-59页 |
| 3.1 结构参数设计 | 第54-55页 |
| 3.2 电子团参数设计 | 第55-56页 |
| 3.3 仿真优化 | 第56-58页 |
| 3.4 总结 | 第58-59页 |
| 第四章 均匀介质部分填充的平板波导切伦科夫尾场辐射研究 | 第59-70页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 对称平板介质波导色散特性 | 第59-63页 |
| 4.3 电子团激励对称平板介质波导尾场求解 | 第63-65页 |
| 4.4 数值分析 | 第65-67页 |
| 4.5 仿真分析 | 第67-68页 |
| 4.6 总结 | 第68-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |