| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 NiO和NiFe薄膜的研究现状 | 第11-17页 |
| 1.2.1 反铁磁材料的发展情况 | 第11-13页 |
| 1.2.2 交换偏置的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.3 铁磁共振线宽的影响因素 | 第15-16页 |
| 1.2.4 薄膜应用研究 | 第16-17页 |
| 1.3 本论文主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 NiO薄膜的制备和表征 | 第19-38页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 NiO薄膜制备及其结果分析 | 第19-30页 |
| 2.2.1 溅射功率对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第19-22页 |
| 2.2.2 氧含量对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第22-25页 |
| 2.2.3 溅射气压对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第25-27页 |
| 2.2.4 衬底温度对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第27-30页 |
| 2.3 靶磁场增强对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第30-36页 |
| 2.3.1 氧含量对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第30-31页 |
| 2.3.2 溅射气压对NiO薄膜物相结构和微观形貌的影响 | 第31-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 NiO/NiFe多层薄膜的制备研究 | 第38-52页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 NiFe厚度对薄膜性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.3 NiO厚度对NiO/NiFe、NiFe/NiO薄膜磁性能的影响 | 第39-45页 |
| 3.3.1 NiO厚度对NiO/NiFe薄膜静磁性能影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2 NiO厚度对NiO/NiFe薄膜微波性能影响 | 第41-43页 |
| 3.3.3 NiO厚度对NiFe/NiO薄膜静磁性能影响 | 第43-44页 |
| 3.3.4 NiO厚度对NiFe/NiO薄膜微波性能影响 | 第44-45页 |
| 3.4 NiO/NiFe/NiO三层膜性能研究 | 第45-48页 |
| 3.4.1 NiO/NiFe/NiO三层膜的静磁性能 | 第45-47页 |
| 3.4.2 NiO/NiFe/NiO三层膜的微波性能 | 第47-48页 |
| 3.5 NiO制备工艺对NiO/NiFe薄膜磁性能影响 | 第48-51页 |
| 3.5.1 溅射气压对NiO/NiFe薄膜静磁性能影响 | 第48-49页 |
| 3.5.2 溅射气压对NiO/NiFe薄膜微波性能影响 | 第49-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 NiO/NiFe薄膜能量弛豫研究 | 第52-62页 |
| 4.1 样品制备和测试 | 第52-55页 |
| 4.1.1 FMR相关理论 | 第52-55页 |
| 4.2 实验数据拟合与讨论 | 第55-61页 |
| 4.2.1 NiO取向对NiO/NiFe薄膜磁性能影响 | 第55-56页 |
| 4.2.2 NiO溅射气压对NiO/NiFe薄膜磁性能影响 | 第56-58页 |
| 4.2.3 NiFe厚度对NiO/NiFe薄膜磁性能影响 | 第58-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第70-71页 |
