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D波段SiC基雪崩二极管的研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
符号对照表第15-16页
缩略语对照表第16-20页
第一章 绪论第20-34页
    1.1 太赫兹技术的研究背景第20-23页
        1.1.1 太赫兹器件的进展第20-22页
        1.1.2 太赫兹技术的应用第22-23页
    1.2 太赫兹器件源第23-26页
    1.3 碰撞雪崩渡越时间二极管的研究背景和现状第26-31页
    1.4 本论文的主要工作和内容安排第31-34页
第二章 SiC基碰撞雪崩渡越时间二极管器件模型及数值仿真方法第34-50页
    2.1 碰撞雪崩渡越时间器件的基本物理过程和结构第34-42页
        2.1.1 IMPATT器件中电荷载流子的高场特性第34-36页
        2.1.2 碰撞离化第36页
        2.1.3 雪崩击穿第36-39页
        2.1.4 基本的IMPATT现象第39-40页
        2.1.5 IMPATT二极管的基本结构和掺杂分布第40-42页
    2.2 Medici模拟软件简介第42-45页
        2.2.1 Medici的基本方程第43-44页
        2.2.2 Medici数值计算过程第44-45页
    2.3 SiC基IMPATT二极管仿真采用的载流子传输模型第45-48页
        2.3.1 漂移扩散模型第45-46页
        2.3.2 能量模型第46-47页
        2.3.3 漂移扩散模型和能量模型的比较第47-48页
    2.4 本章小结第48-50页
第三章 4H-SiC材料各向异性对4H-SiC基IMPATT二极管性能的影响第50-70页
    3.1 4H-SiC材料各向异性对4H-SiC基IMPATT二极管性能影响的研究意义第50-53页
    3.2 4H-SiC IMPATT二极管的大信号分析第53-56页
    3.3 器件结构和材料参数第56-58页
        3.3.1 仿真采用的器件结构第56页
        3.3.2 仿真中采用的4H-SiC材料参数第56-58页
    3.4 <0001>方向和<1120>方向高低单漂移结构4H-SiC IMPATT二极管静态特性仿真结果第58-61页
    3.5 <0001>方向和<1120>方向高低单漂移结构4H-SiC IMPATT二极管动态特性仿真结果第61-67页
    3.6 本章小结第67-70页
第四章 温度对4H-SiC IMPATT二极管性能的影响第70-88页
    4.1 温度对4H-SiC IMPATT二极管性能影响的研究背景第70-71页
    4.2 分析方法和材料参数第71-75页
    4.3 工作温度对单漂移4H-SiC雪崩二极管直流和高频特性的影响第75-82页
        4.3.1 单漂移4H-SiC雪崩二极管静态特性随工作温度的变化第75-78页
        4.3.2 单漂移4H-SiC雪崩二极管动态特性随工作温度的变化第78-82页
    4.4 改变p~+nn~-n~+ 结构4H-SiC基IMPATT二极管中的p~+区掺杂浓度对IMPATT二极管性能造成的影响第82-86页
        4.4.1 改变p~+nn~-n~+结构4H-SiC基IMPATT二极管中的p~+区掺杂浓度对IMPATT二极管静态特性造成的影响第82-85页
        4.4.2 改变p~+nn~-n~+结构4H-SiC基IMPATT二极管中的p~+区掺杂浓度对IMPATT二极管动态特性造成的影响第85-86页
    4.5 本章小结第86-88页
第五章 改进型4H-SiC基IMPATT二极管特性分析第88-96页
    5.1 改进型4H-SiC基IMPATT二极管的研究背景第88-89页
    5.2 改进型IMPATT二极管的器件结构第89-90页
    5.3 改进型高低结构的静态仿真结果第90-91页
    5.4 改进型高低结构的动态仿真结果第91-94页
    5.5 本章小结第94-96页
第六章 4H-SiC IMPATT器件和6H-SiC IMPATT器件的对比第96-110页
    6.1 6H-SiC基IMPATT二极管的研究背景第96-98页
    6.2 <1100>方向和<0001>方向6H-SiC IMPATT二极管的研究第98-104页
        6.2.1 <11?00>方向和<0001>方向6H-SiC材料参数和器件结构第98-101页
        6.2.2 各向异性对6H-SiC基IMPATT二极管影响的仿真结果第101-104页
    6.3 各向异性对4H-SiC和6H-SiC基IMPATT二极管影响的对比结果第104-105页
    6.4 SiC IMPATT器件的工艺设计第105-107页
    6.5 本章小结第107-110页
第七章 总结和展望第110-116页
    7.1 研究结论第110-113页
    7.2 研究展望第113-116页
参考文献第116-126页
致谢第126-128页
作者简介第128-130页

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