| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| 1.1 TIO_2的结构及其性质和应用 | 第7-10页 |
| 1.1.1 二氧化钛（TiO_2）的晶体结构 | 第7-8页 |
| 1.1.2 TiO_2的物化性质及应用 | 第8页 |
| 1.1.3 TiO_2薄膜的性质和应用 | 第8-10页 |
| 1.2 光学镀膜基础知识 | 第10-15页 |
| 1.2.1 真空的定义 | 第10-11页 |
| 1.2.2 真空系统真空度等级划分 | 第11页 |
| 1.2.3 真空泵抽气原理及工作范围 | 第11-12页 |
| 1.2.4 光学镀膜膜厚监控系统：分为光学监控、物理监控 | 第12-13页 |
| 1.2.5 激光器谐振腔腔面镀膜膜层 | 第13页 |
| 1.2.6 常用材料基本性能 | 第13-15页 |
| 1.3 TIO_2薄膜的制备方法 | 第15-22页 |
| 1.3.1 化学气相沉积(CVD) | 第15-16页 |
| 1.3.2 喷雾热解法(Spray pyrolysis) | 第16页 |
| 1.3.3 分子束外延(MBE)技术 | 第16页 |
| 1.3.4 磁控溅射(Magnetron sputtering) | 第16-17页 |
| 1.3.5 原子层外延生长法(ALE) | 第17页 |
| 1.3.6 溶胶-凝胶(Sol-Gel) | 第17-18页 |
| 1.3.7 离子辅助沉积技术（IAD） | 第18-22页 |
| 1.4 论文的主要研究工作 | 第22-23页 |
| 第二章 光学膜系理论算法及影响因素研究 | 第23-27页 |
| 2.1 光学膜系的理论算法 | 第23-25页 |
| 2.1.1 单层膜的反射率及其特征矩阵 | 第23-24页 |
| 2.1.2 多层膜的反射率及其特征矩阵 | 第24-25页 |
| 2.2 工艺参数对膜层性能影响 | 第25-27页 |
| 2.2.1 基片温度 | 第25页 |
| 2.2.2 腔室真空度 | 第25页 |
| 2.2.3 蒸镀速率 | 第25页 |
| 2.2.4 氧气流量 | 第25-27页 |
| 第三章 实验及结论 | 第27-37页 |
| 3.1 引言 | 第27-28页 |
| 3.2 电子束蒸发离子束助镀法制备样品 | 第28页 |
| 3.2.1 实验仪器与主要膜料 | 第28页 |
| 3.3 样品制备过程 | 第28-31页 |
| 3.3.1 真空镀膜设备介绍 | 第28-31页 |
| 3.4 样品测试及实验结果 | 第31-37页 |
| 3.4.1 膜层反射率及折射率测量 | 第31-32页 |
| 3.4.2 扫描电子显微镜 SEM 及理论分析 | 第32-34页 |
| 3.4.3 蒸镀条件确定 | 第34-36页 |
| 3.4.4 确定工艺条件的应用 | 第36-37页 |
| 第四章 结论与展望 | 第37-39页 |
| 4.1 结论 | 第37页 |
| 4.2 展望 | 第37-39页 |
| 第五章 致谢 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
