| 英文缩略表 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 中文摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 1 前言 | 第10-27页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 印染废水处理现状 | 第11-14页 |
| 1.2.1 印染废水污染现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 印染废水防治措施与技术 | 第12-14页 |
| 1.3 光催化技术研究进展 | 第14-17页 |
| 1.3.1 半导体光催化的基本原理 | 第14-16页 |
| 1.3.2 光催化材料发展历程 | 第16-17页 |
| 1.4 BiVO_4的研究进展 | 第17-26页 |
| 1.4.1 BiVO_4的结构与性质 | 第17-18页 |
| 1.4.2 BiVO_4的制备与表征方法 | 第18-23页 |
| 1.4.3 水热合成条件对BiVO_4的影响 | 第23-24页 |
| 1.4.4 BiVO_4的改性 | 第24-26页 |
| 1.5 研究内容 | 第26-27页 |
| 1.6 技术路线 | 第27页 |
| 2 材料与方法 | 第27-32页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第27-29页 |
| 2.2 催化材料制备方法 | 第29页 |
| 2.2.1 BiVO_4的制备 | 第29页 |
| 2.2.2 Ag/BiVO_4的制备 | 第29页 |
| 2.3 材料表征方法 | 第29-30页 |
| 2.4 光催化性能测试体系及评价方法 | 第30-32页 |
| 2.4.1 光源 | 第30页 |
| 2.4.2 实验装置 | 第30-31页 |
| 2.4.3 光解实验方法 | 第31页 |
| 2.4.4 光解分析方法 | 第31-32页 |
| 3 结果与讨论 | 第32-47页 |
| 3.1 pH对BiVO_4的合成及性能的影响 | 第32-37页 |
| 3.1.1 X射线衍射分析 | 第33-34页 |
| 3.1.2 扫描电镜分析 | 第34页 |
| 3.1.3 紫外-可见漫反射光谱分析 | 第34-35页 |
| 3.1.4 pH对BiVO_4样品光催化性能影响 | 第35-37页 |
| 3.2 Ag/BiVO_4表征及光催化活性研究 | 第37-43页 |
| 3.2.1 X射线衍射分析 | 第38-39页 |
| 3.2.2 X射线光电子能谱分析 | 第39-40页 |
| 3.2.3 扫描电镜分析 | 第40页 |
| 3.2.4 紫外-可见漫反射分析 | 第40-41页 |
| 3.2.5 Ag/BiVO_4样品的可见光催化活性 | 第41-43页 |
| 3.3 Ag/BiVO_4光解机理探究 | 第43-45页 |
| 3.3.1 光催化机理实验方法 | 第44页 |
| 3.3.2 捕获剂的抑制作用 | 第44-45页 |
| 3.4 Ag/BiVO_4在自然光下催化活性 | 第45-47页 |
| 3.4.1 太阳光催化实验方法 | 第46页 |
| 3.4.2 太阳光催化性质 | 第46-47页 |
| 4 结论与展望 | 第47-49页 |
| 4.1 主要结论 | 第47-48页 |
| 4.2 展望 | 第48-49页 |
| 5 本论文的创新点 | 第49-50页 |
| 6 参考文献 | 第50-57页 |
| 7 致谢 | 第57-58页 |
| 8 攻读学位期间发表学术论文 | 第58页 |