活性屏离子氮化工艺及氮的气相输运机理研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-26页 |
| ·等离子化学热处理技术 | 第9-15页 |
| ·等离子体概念 | 第9-10页 |
| ·等离子化学热处理基础 | 第10-14页 |
| ·等离子化学热处理工艺特点 | 第14-15页 |
| ·离子渗氮的最新进展 | 第15-20页 |
| ·直流离子渗氮技术 | 第15-16页 |
| ·脉冲离子渗氮技术 | 第16页 |
| ·活性屏离子渗氮技术 | 第16-17页 |
| ·等离子源离子渗氮技术 | 第17-18页 |
| ·低温离子渗氮技术 | 第18-19页 |
| ·离子注入渗氮技术 | 第19页 |
| ·新离子渗氮技术共性模型 | 第19-20页 |
| ·离子渗氮机理的发展 | 第20-24页 |
| ·阴极溅射渗入机理 | 第20-21页 |
| ·氮氢分子离子化机理 | 第21页 |
| ·氮的中性原子渗入机理 | 第21-22页 |
| ·碰撞离解机理 | 第22页 |
| ·“溅射-沉积”机理模型 | 第22-23页 |
| ·“溅射-吸附-解吸”模型机理 | 第23-24页 |
| ·本课题研究目的、内容、意义和技术路线 | 第24-26页 |
| 2 试验材料与方法 | 第26-30页 |
| ·试验材料及前期处理 | 第26页 |
| ·试验设备 | 第26-28页 |
| ·试验方法 | 第28-29页 |
| ·分析测试方法 | 第29-30页 |
| ·金相组织观察 | 第29页 |
| ·扫描电子显微镜观察 | 第29页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第29页 |
| ·显微硬度测试 | 第29-30页 |
| 3 纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮实验 | 第30-59页 |
| ·实验结果分析 | 第31-46页 |
| ·渗层形貌观察 | 第31-33页 |
| ·渗层成分分析 | 第33-38页 |
| ·XRD 分析 | 第38-40页 |
| ·正交试验分析 | 第40-41页 |
| ·重复实验结果分析 | 第41-46页 |
| ·分析与讨论 | 第46-57页 |
| ·活性氮原子的产生及能量条件 | 第48-51页 |
| ·活性氮原子的输运 | 第51-52页 |
| ·活性氮原子的吸附 | 第52-53页 |
| ·活性氮原子的扩散 | 第53-55页 |
| ·活性屏装置对渗氮效果的影响 | 第55-57页 |
| ·供气方式对渗氮效果的影响 | 第57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 4 氨气气氛下活性屏离子渗氮的应用研究 | 第59-77页 |
| ·试验方案 | 第59-61页 |
| ·试验结果与讨论 | 第61-68页 |
| ·渗氮温度对渗氮层的影响 | 第61-63页 |
| ·渗氮电压对渗氮层的影响 | 第63-65页 |
| ·渗氮气压对渗氮层的影响 | 第65-67页 |
| ·渗氮时间对渗氮层的影响 | 第67-68页 |
| ·活性屏离子氮化和脉冲离子氮化的对比实验 | 第68-75页 |
| ·金相观察 | 第68-71页 |
| ·渗层能谱对比分析 | 第71-73页 |
| ·XRD 对比分析 | 第73-74页 |
| ·显微硬度梯度对比 | 第74-75页 |
| ·正交分析 | 第75-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 5 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 攻读硕士学位期间学术论文及科研情况 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
