| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 铁电磁材料及其应用 | 第9-13页 |
| 1.1.1 铁电性能及其应用 | 第9-11页 |
| 1.1.2 铁磁性能及其应用 | 第11-12页 |
| 1.1.3 磁电耦合性能及其应用 | 第12-13页 |
| 1.2 BiFeO_3薄膜的研究现状 | 第13-19页 |
| 1.2.1 晶体结构和性质 | 第13-14页 |
| 1.2.2 制备方法 | 第14-17页 |
| 1.2.3 掺杂改性 | 第17-19页 |
| 1.3 本论文的提出、研究目的及研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验与测试 | 第20-28页 |
| 2.1 实验原料 | 第20-23页 |
| 2.1.1 靶材 | 第20-21页 |
| 2.1.2 基片 | 第21-23页 |
| 2.2 实验方法与设备 | 第23-24页 |
| 2.3 实验设计与工艺过程 | 第24-25页 |
| 2.4 测试与表征 | 第25-28页 |
| 2.4.1 物相与结构 | 第25页 |
| 2.4.2 显微形貌 | 第25-26页 |
| 2.4.3 介电性能 | 第26页 |
| 2.4.4 铁电性能 | 第26-27页 |
| 2.4.5 铁磁性能 | 第27-28页 |
| 第3章 Pt基BiFeO_3薄膜的脉冲激光沉积与铁电性能 | 第28-57页 |
| 3.1 单一物相BiFeO_3薄膜的沉积 | 第28-35页 |
| 3.1.1 实验工艺 | 第28-29页 |
| 3.1.2 薄膜物相与结构 | 第29-34页 |
| 3.1.3 薄膜形貌 | 第34-35页 |
| 3.2 氧气分压对薄膜结构与性能的影响 | 第35-45页 |
| 3.2.1 实验工艺 | 第36页 |
| 3.2.2 氧气分压对薄膜物相与结构的影响 | 第36-39页 |
| 3.2.3 氧气分压对薄膜形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.2.4 氧气分压对薄膜介电性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.5 氧气分压对薄膜铁电性能的影响 | 第43-45页 |
| 3.3 基片温度对薄膜结构与性能的影响 | 第45-55页 |
| 3.3.1 实验工艺 | 第45-46页 |
| 3.3.2 基片温度对薄膜物相与结构的影响 | 第46-47页 |
| 3.3.3 基片温度对薄膜形貌的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.4 基片温度对薄膜介电性能的影响 | 第49-50页 |
| 3.3.5 基片温度对薄膜铁电性能的影响 | 第50-54页 |
| 3.3.6 基片温度对薄膜铁磁性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 Bi_(1-x)Tb_xFeO_3薄膜的沉积及其掺杂改性 | 第57-67页 |
| 4.1 实验工艺 | 第57页 |
| 4.2 Tb掺杂含量对薄膜物相的影响 | 第57-58页 |
| 4.3 Tb掺杂含量对薄膜形貌的影响 | 第58-60页 |
| 4.4 Tb掺杂对薄膜介电性能的影响 | 第60-61页 |
| 4.5 Tb掺杂对薄膜铁电性能的影响 | 第61-65页 |
| 4.6 Tb掺杂对薄膜铁磁性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.7 本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |