| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 铁电材料 | 第11-13页 |
| 1.3 PZT铁电材料的概述 | 第13-14页 |
| 1.4 铁电隧穿结的发展历程及研究现状 | 第14-19页 |
| 1.4.1 铁电隧穿结的发展历程 | 第14-15页 |
| 1.4.2 铁电隧穿结的发展现状 | 第15-19页 |
| 1.5 论文选题及其研究方案 | 第19-21页 |
| 第二章 铁电隧穿结的制备及表征方法 | 第21-32页 |
| 2.1 铁电隧穿结制备方法 | 第21-24页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积(PLD)制膜技术简介 | 第21-23页 |
| 2.1.2 薄膜的生长模式分析 | 第23-24页 |
| 2.2 铁电隧穿结测试方法 | 第24-32页 |
| 2.2.1 铁电隧穿结的微观表征 | 第24-28页 |
| 2.2.2 铁电隧穿结的电学性能表征 | 第28-32页 |
| 第三章 STO衬底上隧穿结的制备与电性能研究 | 第32-49页 |
| 3.1 STO衬底预处理 | 第32-33页 |
| 3.2 SRO电极在STO衬底上的外延生长研究 | 第33-37页 |
| 3.3 PZT铁电薄膜的制备 | 第37-42页 |
| 3.3.1 氧压对PZT薄膜的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.2 温度对PZT薄膜的影响 | 第39-42页 |
| 3.4 厚度对PZT薄膜铁电性的影响 | 第42-45页 |
| 3.5 Au/Ti/PZT/SRO/STO隧穿结的隧穿性能分析 | 第45-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 NSTO衬底上隧穿结的制备与电性能研究 | 第49-61页 |
| 4.1 NSTO衬底上欧姆电极的制备 | 第50-51页 |
| 4.2 NSTO衬底上PZT薄膜的制备 | 第51-53页 |
| 4.3 电极对PZT/NSTO隧穿结的影响 | 第53-56页 |
| 4.3.1 SRO/PZT/NSTO和Au/Ti/PZT/NSTO隧穿结的隧穿效应 | 第54页 |
| 4.3.2 SRO/PZT/NSTO和Au/Ti/PZT/NSTO隧穿效应原理 | 第54-56页 |
| 4.4 隧穿结电荷输运机制分析 | 第56-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士期间取得的成果 | 第69-70页 |
