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TbPO4与Sr2Dy8(SiO46O2晶体的生长与磁光性能的研究

中文摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第10-25页
    1.1 物质磁性的分类第10-13页
        1.1.1 抗磁性物质第11-12页
        1.1.2 顺磁性物质第12页
        1.1.3 铁磁性物质第12页
        1.1.4 反铁磁性物质第12页
        1.1.5 亚铁磁性物质第12-13页
    1.2 磁光效应第13-15页
        1.2.1 法拉第效应(Faraday effect)第13-14页
        1.2.2 克尔效应(Kerr effect)第14-15页
        1.2.3 塞曼效应(Zeeman effect)第15页
        1.2.4 磁致双折射效应第15页
    1.3 磁光材料第15-16页
        1.3.1 磁光晶体第15-16页
        1.3.2 磁光玻璃第16页
        1.3.3 磁光薄膜第16页
        1.3.4 稀磁半导体第16页
    1.4 磁光器件第16-19页
        1.4.1 磁光隔离器第17页
        1.4.2 磁光电流传感器第17-18页
        1.4.3 磁光调制器第18页
        1.4.4 磁光记录与存储第18-19页
    1.5 选题依据与主要思路第19-23页
        1.5.1 选题依据第19-21页
        1.5.2 LnPO_4体系的介绍第21-22页
        1.5.3 Sr_2Ln_8(SiO_4)_6O_2体系的介绍第22-23页
    1.6 项目来源与研究内容第23-25页
        1.6.1 项目来源第23页
        1.6.2 主要研究内容第23-25页
            1.6.2.1 TbPO_4晶体的生长与性能表征第23-24页
            1.6.2.2 Sr_2Dy_8(SiO_4)_6O_2晶体的生长与性能表征第24-25页
第二章 实验试剂及测试仪器简介第25-38页
    2.1 主要实验试剂第25页
    2.2 本论文所使用测试仪器及原理第25-38页
        2.2.1 X射线粉末衍射仪(XRD)第26-28页
        2.2.2 红外光谱仪(FTIR)第28-29页
        2.2.3 UV/VIS/NIR光谱仪第29-30页
        2.2.4 同步热分析仪(DSC-TGA)第30-32页
        2.2.5 硬度测量仪第32-33页
        2.2.6 扫描电子显微镜-X射线能谱分析联用仪(SEM-EDS)第33-34页
        2.2.7 综合物性测量系统(PPMS)第34-35页
        2.2.8 法拉第旋转角测量仪第35-36页
        2.2.9 热膨胀分析仪第36-38页
第三章 TbPO_4晶体的生长与性能研究第38-64页
    3.1 TbPO_4多晶原料的合成第38-40页
        3.1.1 高温固相法合成第38-39页
            3.1.1.1 差示扫描量热(DSC)与热重(TGA)分析第38-39页
            3.1.1.2 烧结工艺的确定第39页
        3.1.2 液相沉淀法合成第39-40页
    3.2 多晶粉末的测试与表征第40-46页
        3.2.1 XRD表征第40-42页
        3.2.2 红外光谱分析第42-43页
        3.2.3 能谱(EDS)分析第43-44页
        3.2.4 漫反射分析第44-45页
        3.2.5 变温磁化率第45-46页
    3.3 TbPO_4晶体生长研究第46-53页
        3.3.1 熔盐法简介第46-47页
        3.3.2 影响晶体生长的其它因素第47页
            3.3.2.1 温场的影响第47页
            3.3.2.2 化料温度及时间的影响第47页
            3.3.2.3 籽晶对于晶体生长的影响第47页
            3.3.2.4 生长速度的影响第47页
        3.3.3 晶体生长装置第47-48页
        3.3.4 助熔剂体系的筛选第48-50页
        3.3.5 助熔剂NaPO_3-Na_2Mo_2O_7第50-52页
        3.3.6 助熔剂Li_2W_2O_7第52-53页
    3.4 晶体的光谱性质与磁光性能第53-59页
        3.4.1 透射光谱表征第53-54页
        3.4.2 晶体荧光分析第54-57页
        3.4.3 拉曼光谱分析第57-58页
        3.4.4 法拉第旋转角与Verdet常数第58-59页
            3.4.4.1 法拉第旋转角第58-59页
            3.4.4.2 费尔德常数的计算第59页
    3.5 晶体生长习性分析第59-62页
    3.6 小结第62-64页
第四章 Sr_2Dy_8(SiO_4)_6O_2晶体生长与性能研究第64-85页
    4.1 提拉法简介第64页
    4.2 影响晶体生长的因素第64-67页
        4.2.1 生长装置第64-66页
            4.2.1.1 加热装置第65页
            4.2.1.2 坩埚第65页
            4.2.1.3 保温绝热材料第65-66页
            4.2.1.4 籽晶第66页
        4.2.2 生长条件第66-67页
            4.2.2.1 温度梯度第66页
            4.2.2.2 提拉速度第66页
            4.2.2.3 晶杆转速第66-67页
    4.3 多晶原料合成第67-68页
        4.3.1 烧结工艺的确定第67-68页
        4.3.2 高温固相合成法第68页
            4.3.2.1 反应方程式第68页
            4.3.2.2 实验步骤第68页
    4.4 多晶原料的表征第68-71页
        4.4.1 XRD测试第68-69页
        4.4.2 红外光谱分析第69-70页
        4.4.3 漫反射分析第70-71页
    4.5 Sr_2Dy_8(SiO_4)_6O_2提拉法晶体生长第71-73页
        4.5.1 实验步骤第71-72页
        4.5.2 生长参数第72页
        4.5.3 晶体照片第72-73页
    4.6 晶体物相分析第73-74页
    4.7 Rietveld法结构精修第74-76页
    4.8 晶体均匀性分析第76-77页
    4.9 晶体理化性能第77-79页
        4.9.1 密度第77-78页
        4.9.2 硬度第78页
        4.9.3 热膨胀第78-79页
    4.10 晶体磁光性能表征第79-83页
        4.10.1 透射光谱第79-80页
        4.10.2 变温磁化率第80-81页
        4.10.3 法拉第旋转角与Verdet常数第81-83页
    4.11 小结第83-85页
结论第85-87页
展望第87-88页
参考文献第88-96页
致谢第96-97页
个人简历第97页

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