摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4页 |
1 绪论 | 第7-18页 |
1.1 选题的研究背景和科学意义 | 第7-8页 |
1.1.1 选题的研究背景 | 第7页 |
1.1.2 选题的科学意义 | 第7-8页 |
1.2 薄膜制备方法 | 第8-9页 |
1.3 二氧化钛薄膜的研究进展 | 第9-15页 |
1.3.1 二氧化钛的晶体结构 | 第9-11页 |
1.3.2 二氧化钛薄膜的研究现状 | 第11-15页 |
1.4 本论文的研究内容 | 第15-16页 |
1.5 本论文的结构安排 | 第16-17页 |
1.6 本章小结 | 第17-18页 |
2 实验原理及测试表征手段 | 第18-26页 |
2.1 静电喷射装置及理论研究 | 第18-20页 |
2.1.1 静电喷射装置 | 第18页 |
2.1.2 静电喷射法理论研究 | 第18-20页 |
2.2 旋涂法理论原理及经典模型 | 第20-22页 |
2.2.1 旋涂法理论原理 | 第20页 |
2.2.2 旋涂法经典模型 | 第20-22页 |
2.3 测试表征手段 | 第22-25页 |
2.3.1 二氧化钛薄膜的晶体结构测量 | 第22-23页 |
2.3.2 二氧化钛薄膜的表面形貌测量 | 第23-24页 |
2.3.3 二氧化钛薄膜的透光性测量 | 第24-25页 |
2.4 本章小结 | 第25-26页 |
3 二氧化钛薄膜的制备 | 第26-47页 |
3.1 实验方案的确立 | 第26-29页 |
3.1.1 二氧化钛溶胶制备方案选择 | 第26-27页 |
3.1.2 实验材料 | 第27页 |
3.1.3 溶胶的制备方法 | 第27-29页 |
3.2 样品基底的处理方法 | 第29-30页 |
3.3 样品的后续热处理 | 第30页 |
3.4 薄膜的制备 | 第30-46页 |
3.4.1 薄膜的旋涂制备 | 第30-33页 |
3.4.2 薄膜的提拉制备 | 第33-36页 |
3.4.3 薄膜的静电喷射法制备 | 第36-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-47页 |
4 薄膜的性能研究 | 第47-59页 |
4.1 薄膜的晶体结构研究 | 第47-48页 |
4.2 静电喷法和旋涂法比较 | 第48页 |
4.3 静电喷射法在玻璃基底上制备二氧化钛薄膜 | 第48-54页 |
4.3.1 透光率分析 | 第48-49页 |
4.3.2 薄膜厚度受喷射时间的影响 | 第49-50页 |
4.3.3 薄膜的透过率和雾度受喷射时间的影响 | 第50-51页 |
4.3.4 粗糙度分析 | 第51-54页 |
4.4 静电喷射法在柔性基底上制备二氧化钛薄膜及性能分析 | 第54-57页 |
4.4.1 在铝箔上制备二氧化钛薄膜 | 第54-55页 |
4.4.2 柔韧性分析 | 第55页 |
4.4.3 附着力测试 | 第55-56页 |
4.4.4 结果与分析 | 第56-57页 |
4.5 本章小结 | 第57-59页 |
5 总结与展望 | 第59-61页 |
5.1 工作总结 | 第59-60页 |
5.2 展望 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-67页 |