首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文--薄膜的生长、结构和外延论文

氧化钒薄膜的制备及其光学特性研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第13-24页
    1.1 概述第13页
    1.2 氧化钒的晶体结构及性质第13-18页
        1.2.1 二氧化钒的晶体结构第14-15页
        1.2.2 二氧化钒的相变特性介绍第15-16页
        1.2.3 五氧化二钒的晶体结构第16-17页
        1.2.4 五氧化二钒的相变特性介绍第17-18页
    1.3 氧化钒的应用第18-20页
        1.3.1 二氧化钒的应用第18-20页
        1.3.2 五氧化二钒的应用第20页
    1.4 国内外相关研究动态第20-22页
    1.5 本文的研究目的、意义和主要内容第22-24页
第2章 氧化钒薄膜的制备和表征第24-35页
    2.1 氧化钒薄膜的制备方法第24-27页
        2.1.1 脉冲激光沉积法第24页
        2.1.2 蒸发法第24-25页
        2.1.3 溅射法第25页
        2.1.4 溶胶-凝胶法第25-26页
        2.1.5 化学气相沉积法第26-27页
    2.2 氧化钒薄膜的表征第27-34页
        2.2.1 X射线衍射仪第27-29页
        2.2.2 拉曼光谱仪第29-31页
        2.2.3 紫外/可见分光光度计第31-32页
        2.2.4 傅里叶变换红外光谱仪第32-34页
    2.3 本章小结第34-35页
第3章 实验原理与步骤第35-43页
    3.1 磁控溅射技术第35-39页
        3.1.1 磁控溅射的原理第35-37页
        3.1.2 磁控溅射技术的优缺点第37-38页
        3.1.3 磁控溅射的影响因素第38-39页
    3.2 实验操作第39-42页
        3.2.1 薄膜制备的工艺流程第40-42页
    3.3 本章小结第42-43页
第4章 直流磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜第43-57页
    4.1 五氧化二钒薄膜的制备第43-50页
        4.1.1 样品的XRD分析第43-47页
        4.1.2 样品的拉曼光谱分析第47-48页
        4.1.3 样品的透射光谱分析第48-50页
    4.2 薄膜样品的真空退火实验第50-54页
        4.2.1 样品的XRD分析第51-52页
        4.2.2 样品的拉曼光谱分析第52页
        4.2.3 样品的红外透射光谱分析第52-54页
    4.3 薄膜样品在氢气条件下的退火实验第54-55页
    4.4 本章小结第55-57页
第5章 射频磁控溅射法制备氧化钒薄膜第57-67页
    5.1 射频磁控溅射制备氧化钒薄膜第57-59页
        5.1.1 样品的XRD分析第58-59页
        5.1.2 样品的拉曼光谱分析第59页
    5.2 薄膜样品的真空退火实验第59-62页
        5.2.1 样品的XRD分析第60-61页
        5.2.2 样品的拉曼光谱分析第61-62页
        5.2.3 样品的红外透射光谱分析第62页
    5.3 薄膜样品的氢气退火实验第62-66页
        5.3.1 样品的XRD分析第63-64页
        5.3.2 样品的拉曼光谱分析第64页
        5.3.3 样品的红外透射光谱分析第64-66页
    5.4 本章小结第66-67页
结论第67-69页
参考文献第69-75页
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果第75-76页
致谢第76-77页

论文共77页,点击 下载论文
上一篇:化学修饰固定相的制备及其对药物吸附性能的研究
下一篇:佛山市一体化治超管理系统的设计与实现