氧化钒薄膜的制备及其光学特性研究
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-24页 |
| 1.1 概述 | 第13页 |
| 1.2 氧化钒的晶体结构及性质 | 第13-18页 |
| 1.2.1 二氧化钒的晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.2.2 二氧化钒的相变特性介绍 | 第15-16页 |
| 1.2.3 五氧化二钒的晶体结构 | 第16-17页 |
| 1.2.4 五氧化二钒的相变特性介绍 | 第17-18页 |
| 1.3 氧化钒的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.1 二氧化钒的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.2 五氧化二钒的应用 | 第20页 |
| 1.4 国内外相关研究动态 | 第20-22页 |
| 1.5 本文的研究目的、意义和主要内容 | 第22-24页 |
| 第2章 氧化钒薄膜的制备和表征 | 第24-35页 |
| 2.1 氧化钒薄膜的制备方法 | 第24-27页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积法 | 第24页 |
| 2.1.2 蒸发法 | 第24-25页 |
| 2.1.3 溅射法 | 第25页 |
| 2.1.4 溶胶-凝胶法 | 第25-26页 |
| 2.1.5 化学气相沉积法 | 第26-27页 |
| 2.2 氧化钒薄膜的表征 | 第27-34页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第27-29页 |
| 2.2.2 拉曼光谱仪 | 第29-31页 |
| 2.2.3 紫外/可见分光光度计 | 第31-32页 |
| 2.2.4 傅里叶变换红外光谱仪 | 第32-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 实验原理与步骤 | 第35-43页 |
| 3.1 磁控溅射技术 | 第35-39页 |
| 3.1.1 磁控溅射的原理 | 第35-37页 |
| 3.1.2 磁控溅射技术的优缺点 | 第37-38页 |
| 3.1.3 磁控溅射的影响因素 | 第38-39页 |
| 3.2 实验操作 | 第39-42页 |
| 3.2.1 薄膜制备的工艺流程 | 第40-42页 |
| 3.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 直流磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜 | 第43-57页 |
| 4.1 五氧化二钒薄膜的制备 | 第43-50页 |
| 4.1.1 样品的XRD分析 | 第43-47页 |
| 4.1.2 样品的拉曼光谱分析 | 第47-48页 |
| 4.1.3 样品的透射光谱分析 | 第48-50页 |
| 4.2 薄膜样品的真空退火实验 | 第50-54页 |
| 4.2.1 样品的XRD分析 | 第51-52页 |
| 4.2.2 样品的拉曼光谱分析 | 第52页 |
| 4.2.3 样品的红外透射光谱分析 | 第52-54页 |
| 4.3 薄膜样品在氢气条件下的退火实验 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 射频磁控溅射法制备氧化钒薄膜 | 第57-67页 |
| 5.1 射频磁控溅射制备氧化钒薄膜 | 第57-59页 |
| 5.1.1 样品的XRD分析 | 第58-59页 |
| 5.1.2 样品的拉曼光谱分析 | 第59页 |
| 5.2 薄膜样品的真空退火实验 | 第59-62页 |
| 5.2.1 样品的XRD分析 | 第60-61页 |
| 5.2.2 样品的拉曼光谱分析 | 第61-62页 |
| 5.2.3 样品的红外透射光谱分析 | 第62页 |
| 5.3 薄膜样品的氢气退火实验 | 第62-66页 |
| 5.3.1 样品的XRD分析 | 第63-64页 |
| 5.3.2 样品的拉曼光谱分析 | 第64页 |
| 5.3.3 样品的红外透射光谱分析 | 第64-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
