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基于锗硅工艺的Ku波段功率放大器

摘要第5-6页
Abstract第6页
第一章 绪论第9-15页
    1.1 研究背景第9-11页
    1.2 国内外研究现状第11-14页
        1.2.1 国外的研究现状和动态第11-13页
        1.2.2 国内的研究现状和动态第13-14页
    1.3 论文研究内容及意义第14页
    1.4 论文组织结构第14-15页
第二章 功率放大器设计基础理论第15-31页
    2.1 功率放大器主要性能指标第15-21页
        2.1.1 功率增益第15页
        2.1.2 输出功率第15-16页
        2.1.3 效率第16-17页
        2.1.4 非线性特征第17-21页
    2.2 线性功率放大器第21-26页
    2.3 功率放大器的电路结构第26-29页
        2.3.1 单端结构第26-27页
        2.3.2 差分结构第27-28页
        2.3.3 平衡结构第28-29页
    2.4 本章小结第29-31页
第三章 基于SiGe BiCMOS工艺Ku波段线性功率放大器设计第31-61页
    3.1 功率放大器的设计步骤第31-32页
    3.2 IBM SiGe BiCMOS工艺概述第32-35页
        3.2.1 SiGe BiCMOS技术简介第32页
        3.2.2 IBM SiGe BiCMOS 8HP工艺简介第32-34页
        3.2.3 功率放大器设计需要考虑的问题第34-35页
    3.3 SiGe BiCMOS工艺Ku波段线性功率放大器电路设计第35-51页
        3.3.1 电路整体结构框图第35页
        3.3.2 有源器件选择选择以及功率级电路结构选择第35-37页
        3.3.3 TSV2简介第37-38页
        3.3.4 偏置网络设计第38-40页
        3.3.5 温度补偿网络第40-41页
        3.3.6 稳定性网络设计第41-44页
        3.3.7 匹配网络设计第44-50页
        3.3.8 最终电路结构第50-51页
    3.4 前仿真结果和分析第51-60页
    3.5 本章小结第60-61页
第四章 版图设计和联合仿真第61-75页
    4.1 版图设计的注意事项第61-63页
        4.1.1 互连线的考虑第61页
        4.1.2 ADS中Momentum仿真简介第61-62页
        4.1.3 保护环设计第62页
        4.1.4 ESD保护电路第62-63页
    4.2 版图的设计第63-64页
    4.3 联合仿真结果第64-74页
    4.4 本章小结第74-75页
第五章 Ku波段功率放大器测试方案第75-79页
    5.1 PCB设计第75页
    5.2 测试环境第75-76页
    5.3 功率放大器测试方案第76-79页
        5.3.1 直流(DC)测试第77页
        5.3.2 S参数测试第77页
        5.3.3 输出功率测试第77-79页
第六章 总结与展望第79-81页
    6.1 总结第79页
    6.2 展望第79-81页
参考文献第81-83页
作者简介第83-85页
致谢第85页

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