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离子液体电沉积Cu-In/Ga金属预制层及其硒化处理工艺

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-23页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第10-11页
    1.2 CIGS薄膜太阳能电池研究现状第11-17页
        1.2.1 CIGS薄膜太阳能电池的发展现状第11-12页
        1.2.2 CIGS薄膜太阳能电池的结构和工作原理第12-14页
        1.2.3 CIGS薄膜太阳能电池的制备方法第14-17页
    1.3 离子液体电沉积CIGS薄膜的研究现状第17-19页
    1.4 CIG预制层硒化工艺简介第19-22页
        1.4.1 用H2Se作为硒源第20页
        1.4.2 用单质Se作为硒源第20-22页
    1.5 本论文的研究内容第22-23页
第2章 实验材料及研究方法第23-28页
    2.1 实验药品和仪器设备第23页
    2.2 实验方法第23-25页
        2.2.1 电解液配制方法第23-24页
        2.2.2 基底的选择与清洗第24-25页
        2.2.3 电化学测试第25页
        2.2.4 恒电势沉积第25页
    2.3 薄膜材料的结构和性能表征方法第25-28页
        2.3.1 场发射扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)第25-26页
        2.3.2 透射电子显微镜(TEM)第26页
        2.3.3 X射线衍仪 (XRD )第26页
        2.3.4 拉曼光谱分析(Raman)第26页
        2.3.5 紫外光谱分析(UV-vis)第26-27页
        2.3.6 霍尔效应测试第27-28页
第3章 电沉积Cu-In/Ga金属预制层工艺的研究第28-42页
    3.1 离子液体中铜与铟的循环伏安行为第28-30页
    3.2 溶液组成及工艺条件对电沉积Cu-In合金的影响第30-33页
        3.2.1 溶液组成对Cu-In合金沉积层组成和微观形貌的影响第30-31页
        3.2.2 沉积电位对Cu-In合金沉积层组成和微观形貌的影响第31-32页
        3.2.3 沉积温度对Cu-In合金沉积层组成和微观形貌的影响第32-33页
    3.3 Cu-In合金预制层的制备及其结构分析第33-35页
    3.4 离子液体中Ga的循环伏安行为第35-36页
    3.5 Ga在Cu-In合金预制层上的电沉积工艺研究第36-38页
        3.5.1 沉积温度对Cu-In/Ga金属预制层的组成和形貌的影响第36-37页
        3.5.2 沉积时间对Cu-In/Ga金属预制层的组成和形貌的影响第37-38页
    3.6 Cu-In/Ga金属预制层的组成和结构分析第38-40页
    3.7 本章小结第40-42页
第4章 CIGS薄膜的成膜工艺研究第42-68页
    4.1 硒化方式的选择。第42-50页
        4.1.1 开放式的硒化系统第43-48页
        4.1.2 封闭式的硒化系统第48-50页
    4.2 铜铟镓硒(CIGS)薄膜材料硒化工艺的研究第50-57页
        4.2.1 退火温度对铜铟镓硒薄膜材料形貌和结构的影响第51-54页
        4.2.2 退火时间对铜铟镓硒薄膜材料形貌和结构的影响第54-57页
    4.3 合金化处理对CIG金属预制层硒化结果影响第57-63页
        4.3.1 升温过程中的合金化处理对硒化退火过程的影响第57-60页
        4.3.2 不同的合金化温度对铜铟镓硒薄膜材料形貌和结构的影响第60-63页
    4.4 铜铟镓硒(CIGS)薄膜材料的组成和结构分析第63-67页
    4.5 本章小结第67-68页
结论第68-70页
参考文献第70-75页
攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果第75-77页
致谢第77页

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