| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 NFC技术中的电磁波干扰破坏分析 | 第11-13页 |
| 1.1.1 NFC技术简介 | 第11-12页 |
| 1.1.2 NFC技术中的入射电磁波干扰破坏问题分析 | 第12页 |
| 1.1.3 软磁材料应用在NFC抗金属干扰的原理分析 | 第12-13页 |
| 1.2 软磁材料及其研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2.1 软磁材料及其分类 | 第13-14页 |
| 1.2.2 软磁材料的研究进展 | 第14页 |
| 1.3 Sendust软磁合金及其磁损耗研究 | 第14-15页 |
| 1.3.1 Sendust软磁合金简介 | 第14-15页 |
| 1.3.2 Sendust软磁材料的磁损耗研究 | 第15页 |
| 1.4 软磁材料的磁畴结构 | 第15-16页 |
| 1.4.1 磁畴形成的原因 | 第15-16页 |
| 1.4.2 磁畴尺寸 | 第16页 |
| 1.5 多层薄膜结构 | 第16-17页 |
| 1.6 Fe-Si-Al薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.6.1 FeSiAl三元合金传统的制备工艺 | 第17-18页 |
| 1.6.2 磁控溅射方法制备Sendust薄膜 | 第18-19页 |
| 1.6.3 磁控溅射制备Sendust/C多层薄膜 | 第19页 |
| 1.7 本文的研究意义、目的和主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 样品的制备和表征 | 第21-26页 |
| 2.1 实验仪器和试剂 | 第21页 |
| 2.2 真空镀膜装置 | 第21-23页 |
| 2.3 样品的制备 | 第23-24页 |
| 2.3.1 实验样品的准备 | 第23页 |
| 2.3.2 单层Sendust薄膜和多层Sendust/C薄膜的制备过程 | 第23-24页 |
| 2.4 样品的表征 | 第24-26页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第24页 |
| 2.4.2 扫描电镜分析 | 第24页 |
| 2.4.3 原子力显微镜分析 | 第24页 |
| 2.4.4 磁力显微镜 | 第24-25页 |
| 2.4.5 静态磁性能分析 | 第25页 |
| 2.4.6 X射线能量色散谱分析 | 第25-26页 |
| 第3章 Sendust薄膜厚度对微观结构及电磁学性能的影响 | 第26-39页 |
| 3.1 引言 | 第26-27页 |
| 3.2 样品的制备 | 第27-28页 |
| 3.3 Sendust薄膜厚度对表面形貌的影响 | 第28-31页 |
| 3.4 Sendust薄膜厚度对表面粗糙度的影响 | 第31-32页 |
| 3.5 Sendust薄膜厚度对磁畴结构的影响 | 第32-34页 |
| 3.6 Sendust薄膜厚度对软磁性能的影响 | 第34-37页 |
| 3.7 Sendust薄膜厚度对面电阻的影响 | 第37-38页 |
| 3.8 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 Sendust/C多层薄膜的制备及磁性能的研究 | 第39-51页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 样品的制备 | 第39页 |
| 4.3 非磁性C层对Sendust/C多层薄膜表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 4.4 Sendust/C多层薄膜XRD分析 | 第41-42页 |
| 4.5 非磁性C层对Sendust/C多层薄膜表面粗糙度的影响 | 第42-44页 |
| 4.6 Sendust/C多层薄膜的非磁性C层微观结构 | 第44-46页 |
| 4.7 非磁性C层对Sendust/C多层薄膜表面磁畴的影响 | 第46页 |
| 4.8 非磁性C层对Sendust/C多层薄膜软磁性能的影响 | 第46-49页 |
| 4.9 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 退火对Sendust/C多层薄膜微观结构的影响 | 第51-60页 |
| 5.1 引言 | 第51-52页 |
| 5.2 样品的制备 | 第52页 |
| 5.3 退火对Sendust/C多层薄膜表面形貌的影响 | 第52-54页 |
| 5.4 退火前后Sendust/C多层薄膜的XRD结构分析 | 第54-55页 |
| 5.5 退火对Sendust/C多层薄膜表面粗糙度的影响 | 第55-58页 |
| 5.6 退火对Sendust/C多层薄膜磁畴结构的影响 | 第58-59页 |
| 5.7 本章小结 | 第59-60页 |
| 第6章 磁场下沉积Sendust薄膜及磁性能研究 | 第60-68页 |
| 6.1 引言 | 第60页 |
| 6.2 样品的制备 | 第60-61页 |
| 6.3 定向磁场诱导Sendust薄膜有序排列 | 第61-63页 |
| 6.4 软磁性能分析 | 第63-67页 |
| 6.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第7章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 7.1 论文研究结论 | 第68-69页 |
| 7.2 展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第76页 |
