摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 几种典型氧化物薄膜材料的介绍 | 第11-15页 |
1.2.1 透明导电氧化物薄膜材料 | 第12-13页 |
1.2.2 磁性氧化物薄膜材料 | 第13-14页 |
1.2.3 超导氧化物薄膜材料 | 第14页 |
1.2.4 光电氧化物薄膜材料 | 第14-15页 |
1.2.5 介电氧化物薄膜材料 | 第15页 |
1.3 ZnO薄膜的特性与应用 | 第15-17页 |
1.3.1 ZnO的结构与特性 | 第15-16页 |
1.3.2 ZnO的应用 | 第16-17页 |
1.4 ZnON薄膜的特性 | 第17-19页 |
1.5 ZnON薄膜研究现状 | 第19页 |
1.6 本论文的主要研究内容 | 第19-21页 |
第二章 氮氧锌薄膜的制备及其性能表征 | 第21-39页 |
2.1 氮氧锌薄膜制备方法简介 | 第21-24页 |
2.1.1 磁控溅射镀膜的原理 | 第21-22页 |
2.1.2 磁控溅射镀膜的优点 | 第22页 |
2.1.3 磁控溅射镀膜的分类 | 第22-23页 |
2.1.4 影响磁控溅射镀膜的主要参数 | 第23-24页 |
2.2 ZnON薄膜的制备 | 第24-27页 |
2.2.1 总体制备流程 | 第24页 |
2.2.2 主要仪器及用途 | 第24-25页 |
2.2.3 基片的清洗 | 第25页 |
2.2.4 ZnON薄膜制备流程 | 第25-27页 |
2.3 薄膜性能的表征方法 | 第27-29页 |
2.3.1 紫外-可见分光光度仪 | 第27-28页 |
2.3.2 四探针测试仪 | 第28-29页 |
2.3.3 干涉台阶测试仪 | 第29页 |
2.4 ZnON薄膜的光学性能 | 第29-36页 |
2.4.1 氧氮比对ZnON薄膜光学性能的影响 | 第29-32页 |
2.4.2 溅射功率对ZnON薄膜光学性能的影响 | 第32-34页 |
2.4.3 靶基距对ZnON薄膜光学性能的影响 | 第34-36页 |
2.5 ZnON薄膜的方阻 | 第36-37页 |
2.6 ZnON薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
2.7 本章小结 | 第38-39页 |
第三章 薄膜晶体管理论基础 | 第39-51页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 薄膜晶体管的基本结构 | 第39-41页 |
3.3 薄膜晶体管的工作原理 | 第41-42页 |
3.4 薄膜晶体管的分类 | 第42-45页 |
3.4.1 非晶硅TFT | 第42页 |
3.4.2 多晶硅TFT | 第42-43页 |
3.4.3 微晶硅TFT | 第43页 |
3.4.4 氧化物TFT | 第43-44页 |
3.4.5 有机TFT | 第44-45页 |
3.5 薄膜晶体管制备相关工艺 | 第45-48页 |
3.5.1 光刻 | 第45-46页 |
3.5.2 刻蚀 | 第46-48页 |
3.6 薄膜晶体管主要特性参数 | 第48-50页 |
3.6.1 载流子迁移率 | 第48-49页 |
3.6.2 阈值电压 | 第49页 |
3.6.3 亚阈值摆幅 | 第49页 |
3.6.4 开关比 | 第49-50页 |
3.7 本章小结 | 第50-51页 |
第四章 氮氧锌基薄膜晶体管 | 第51-65页 |
4.1 ZnON-TFT的制备 | 第51-55页 |
4.1.1 ZnON-TFT的结构 | 第51页 |
4.1.2 ZnON-TFT制备工艺流程 | 第51-52页 |
4.1.3 主要仪器及用途 | 第52页 |
4.1.4 Si基片的清洗 | 第52-53页 |
4.1.5 有源层ZnON薄膜的制备 | 第53页 |
4.1.6 源漏电极Mo的制备 | 第53-54页 |
4.1.7 源漏电极Mo的光刻与刻蚀 | 第54-55页 |
4.2 ZnON-TFT电学性能测试 | 第55-57页 |
4.2.1 测试系统 | 第55-56页 |
4.2.2 测试步骤 | 第56-57页 |
4.3 结果与分析 | 第57-64页 |
4.3.1 不同氧氮比对ZnON-TFT电学性能的影响 | 第57-60页 |
4.3.2 不同溅射功率对ZnON-TFT电学性能的影响 | 第60-62页 |
4.3.3 不同靶基距对ZnON-TFT电学性能的影响 | 第62-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-65页 |
第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
5.1 全文总结 | 第65页 |
5.2 展望计划 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第72页 |