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反冲质子法D-T快中子能谱测量方法研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 引言第10-23页
    1.1 中子物理及中子应用技术综述第10-12页
        1.1.1 中子的发现第10页
        1.1.2 中子物理研究第10-11页
        1.1.3 中子应用技术研究第11-12页
    1.2 中子测量方法综述第12-13页
        1.2.1 核反冲法第12页
        1.2.2 核反应法第12页
        1.2.3 核裂变法第12-13页
        1.2.4 核活化法第13页
    1.3 中子能谱测量方法和研究进展综述第13-20页
        1.3.1 中子能谱测量方法综述第13-14页
        1.3.2 快中子能谱测量研究进展第14-20页
    1.4 主要研究内容第20-23页
第二章 D-T中子在聚乙烯膜上的反冲质子特性模拟及实验条件确定第23-35页
    2.1 D-T聚变反应加速器中子源简介第23-24页
    2.2 反冲质子法D-T快中子能谱测量原理及需要解决的基本问题第24-25页
        2.2.1 能谱测量原理第24-25页
        2.2.2 需要解决的基本问题第25页
    2.3 反冲质子产额、角分布及能谱模拟研究第25-34页
        2.3.1 MCNP程序简介第25-26页
        2.3.2 反冲质子积分产额及平均能谱模拟第26-29页
        2.3.3 反冲质子微分产额、能谱及角分布模拟第29-34页
    2.4 测量条件选择第34页
    2.5 小结第34-35页
第三章 能谱反演理论和算法及计算程序开发第35-43页
    3.1 能谱反演的基本理论基础第35-36页
    3.2 最小二乘法能谱反演基本理论及算法第36-38页
        3.2.1 最小二乘法能谱反演理论第36-38页
        3.2.2 算法及反演程序开发第38页
    3.3 迭代算法能谱反演理论及算法第38-42页
        3.3.1 迭代算法能谱反演理论第38-41页
        3.3.2 算法及反演程序开发第41-42页
    3.4 总结第42-43页
第四章 D-T快中子能谱测量反演方法的模拟研究与测试第43-57页
    4.1 聚乙烯膜响应矩阵的蒙特卡洛模拟第43-49页
        4.1.1 模拟模型建立第43-44页
        4.1.2 模拟结果及讨论第44-49页
    4.2 D-T快中子能谱设定及反冲质子能谱模拟第49-53页
        4.2.1 D-T快中子能谱设定第49-52页
        4.2.2 反冲质子能谱模拟第52-53页
    4.3 最小二乘法D-T快中子能谱的反演验证第53-54页
        4.3.1 探测器位于0°条件下D-T快中子能谱的反演结果第53页
        4.3.2 讨论第53-54页
    4.4 迭代法D-T快中子能谱的反演验证第54-55页
        4.4.1 探测器位于0°条件下D-T快中子能谱的反演结果第54页
        4.4.2 45°条件下D-T快中子能谱的反演结果第54-55页
        4.4.3 讨论第55页
    4.5 小结第55-57页
第五章 探测器系统的初步模拟研究与设计第57-67页
    5.1 Si(Au)探测器的选择第57-58页
    5.2 中子准直屏蔽体对中子能谱的影响第58-59页
    5.3 系统的探测效率及Si(Au)探测器中的质子能谱第59-61页
        5.3.1 系统的探测效率第59-60页
        5.3.2 Si(Au)探测器中的质子响应谱第60-61页
    5.4 屏蔽效果及中子对探测器的影响第61-65页
        5.4.1 探测器中的中子注量率及能谱第61-62页
        5.4.2 中子与Si反应产生的质子及α粒子能谱第62-65页
    5.5 小结第65-67页
第六章 总结与展望第67-69页
    6.1 总结第67页
    6.2 展望第67-69页
参考文献第69-72页
在学期间的研究成果第72-73页
致谢第73页

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