| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 多孔阳极氧化铝介绍 | 第12-42页 |
| 1.1 前言 | 第12-13页 |
| 1.2 阳极氧化铝模板的发展历史 | 第13-17页 |
| 1.3 多孔氧化铝研究拓展 | 第17-21页 |
| 1.4 阳极氧化铝模板的形成机制 | 第21-26页 |
| 1.4.1 阴离子扩散过程 | 第21页 |
| 1.4.2 成膜理论概述 | 第21-26页 |
| 1.5 多孔氧化铝的应用方向 | 第26-34页 |
| 1.5.1 多孔氧化铝作为掩模板 | 第27-28页 |
| 1.5.2 多孔氧化铝在超疏水方面的应用 | 第28-31页 |
| 1.5.3 衬底上生长阳极氧化铝及应用 | 第31-34页 |
| 1.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-42页 |
| 第二章 ITO玻璃上多孔阳极氧化铝的制备 | 第42-62页 |
| 2.1 前言 | 第42-43页 |
| 2.2 磁控溅射方法介绍 | 第43-46页 |
| 2.2.1 磁控溅射发展历史 | 第43页 |
| 2.2.2 磁控溅射原理介绍 | 第43-46页 |
| 2.3 实验过程 | 第46-51页 |
| 2.3.1 使用磁控溅射方法在ITO玻璃上溅射Ti | 第46-47页 |
| 2.3.2 使用磁控溅射方法在ITO玻璃上溅射Al | 第47-49页 |
| 2.3.3 阳极氧化过程 | 第49-50页 |
| 2.3.4 初步检测手段 | 第50页 |
| 2.3.5 阳极氧化AAO形成机制 | 第50-51页 |
| 2.4 ITO玻璃上阳极氧化铝快速制备技术 | 第51-54页 |
| 2.5 ITO玻璃上阻碍层去除技术 | 第54-59页 |
| 2.6 本章小结 | 第59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 第三章 多孔阳极氧化铝膜的光学特性 | 第62-74页 |
| 3.1 前言 | 第62页 |
| 3.2 多孔阳极氧化铝膜的光致发光特性 | 第62-71页 |
| 3.2.1 光致发光(PL)的原理 | 第62-63页 |
| 3.2.2 多孔氧化铝的光致发光谱 | 第63-67页 |
| 3.2.3 ITO玻璃上多孔氧化铝的PL特性 | 第67-71页 |
| 3.3 多孔阳极氧化铝膜的透射特性 | 第71-72页 |
| 3.4 本章小结 | 第72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 全文总结 | 第74-76页 |
| 插图索引 | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第82页 |