| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 前言 | 第9页 |
| 1.1 铀的危害 | 第9页 |
| 1.2 六价铀污染处理 | 第9-10页 |
| 1.3 光催化还原技术的发展 | 第10页 |
| 1.4 半导体光催化原理 | 第10-11页 |
| 1.5 聚合物半导体石墨相氮化碳的制备和应用 | 第11-18页 |
| 1.5.1 石墨相氮化碳的制备 | 第11-15页 |
| 1.5.1.1 前驱体组分影响 | 第12-13页 |
| 1.5.1.2 超薄纳米片层g-C_3N_4 | 第13-14页 |
| 1.5.1.3 介孔g-C_3N_4 | 第14-15页 |
| 1.5.2 g-C_3N_4的改性 | 第15-18页 |
| 1.5.2.1 非金属掺杂 | 第15-16页 |
| 1.5.2.2 金属掺杂 | 第16-17页 |
| 1.5.2.3 芳香基团引入g-C_3N_4结构 | 第17页 |
| 1.5.2.4 复合光催化体系 | 第17-18页 |
| 1.6 g-C_3N_4基光催化应用 | 第18-20页 |
| 1.6.1 光催化产氢 | 第18-19页 |
| 1.6.2 光催化还原CO2 | 第19页 |
| 1.6.3 其他应用 | 第19-20页 |
| 1.7 碳纳米笼 | 第20页 |
| 1.8 本课题研究内容和意义 | 第20-21页 |
| 第二章 硼掺杂g-C_3N_4光催化还原六价酰铀 | 第21-33页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 光催化材料的制备 | 第22页 |
| 2.3 催化剂表征 | 第22-23页 |
| 2.4 光催化性能测试 | 第23页 |
| 2.5 结果与讨论 | 第23-31页 |
| 2.6 结论 | 第31-33页 |
| 第三章 新型非金属碳纳米材料光催化还原六价酰铀性能与机理研究 | 第33-45页 |
| 3.1 实验部分 | 第33-35页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第35-44页 |
| 3.3 结论 | 第44-45页 |
| 展望 | 第45-47页 |
| 硕士期间取得的研究成果 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |