| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 钙钛矿氧化物简介 | 第11-12页 |
| 1.2 共振隧穿器件发展历史 | 第12-13页 |
| 1.3 共振隧穿二极管概述 | 第13-18页 |
| 1.3.1 共振隧穿二极管的工作原理 | 第13-16页 |
| 1.3.2 影响共振隧穿电流的因素 | 第16-17页 |
| 1.3.3 共振隧穿二极管的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文的研究意义及研究内容 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-23页 |
| 第二章 样品制备和表征方法 | 第23-35页 |
| 2.1 固相反应法制备陶瓷靶材 | 第23页 |
| 2.2 脉冲激光沉积技术(PLD)原理概述 | 第23-27页 |
| 2.2.1 PLD技术制备薄膜流程 | 第24-25页 |
| 2.2.2 影响PLD技术中薄膜生长的因素 | 第25-27页 |
| 2.3 实验样品的表征方法 | 第27-33页 |
| 2.3.1 反射式高能电子衍射(RHEED) | 第27-29页 |
| 2.3.2 X射线衍射(XRD) | 第29-31页 |
| 2.3.3 原子力显微镜(AFM)和压电力显微镜(PFM) | 第31-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 La:SrTiO_3靶材和薄膜的制备和表征 | 第35-46页 |
| 3.1 La:SrTiO_3靶材制备 | 第35-36页 |
| 3.2 La:SrTiO_3薄膜制备工艺的优化 | 第36-38页 |
| 3.3 不同厚度的La:SrTiO_3薄膜 | 第38-42页 |
| 3.3.1 La:SrTiO_3薄膜的结构、表面形貌 | 第38-41页 |
| 3.3.2 La:SrTiO_3薄膜的输运性质 | 第41-42页 |
| 3.4 La:SrTiO_3/SrTiO_3超晶格的制备 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第四章 钙钛矿双势垒及共振隧穿特性 | 第46-59页 |
| 4.1 LaAlO_3/SrTiO_3/LaAlO_3双势垒的共振隧穿 | 第46-50页 |
| 4.1.1 双势垒异质结的晶体结构和表面形貌 | 第47-48页 |
| 4.1.2 双势垒异质结的共振隧穿 | 第48-50页 |
| 4.2 铁电极化对共振隧穿的调制 | 第50-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第五章 总结 | 第59-60页 |
| Publication list | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
